[發明專利]一種電潤濕顯示器件及其制備方法有效
| 申請號: | 201810361384.8 | 申請日: | 2018-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN108572444B | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 周國富;李發宏;竇盈瑩 | 申請(專利權)人: | 深圳市國華光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02B26/00 | 分類號: | G02B26/00 |
| 代理公司: | 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205 | 代理人: | 林偉峰 |
| 地址: | 518110 廣東省深圳市龍華新區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 潤濕 顯示 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種電潤濕顯示陣列基板,包括下基板(3),設置在下基板(3)上的下電極層(4),設置在下電極層(4)上的疏水層(5),設置在疏水層(5)上的像素墻(6),所述像素墻(6)圍成像素格,其特征在于:所述疏水層(5)上設置有柱形結構(10),所述柱形結構(10)位于所述像素格內且臨近像素格角落設置;所述下電極層(4)中設置有開口(11),所述開口(11)位于所述柱形結構(10)所在的像素格角落設置,所述柱形結構(10)位于臨近像素格角落的頂點和像素格中心所在的直線上,且與臨近像素格角落的頂點距離為s。
2.根據權利要求1所述的一種電潤濕顯示陣列基板,其特征在于:所述柱形結構(10)臨近像素格角落的頂點和像素格中心的距離為r,其中0.35r≤s≤0.70r。
3.一種電潤濕顯示陣列基板,包括下基板(3),設置在下基板(3)上的下電極層(4),設置在下電極層(4)上的疏水層(5),設置在疏水層(5)上的像素墻(6),所述像素墻(6)圍成像素格,其特征在于:所述疏水層(5)上設置有柱形結構(10),所述柱形結構(10)位于所述像素格內且臨近像素格角落設置;所述下電極層(4)上設置有絕緣層(15),所述絕緣層(15)位于所述柱形結構(10)所在的像素格角落設置,所述柱形結構(10)位于臨近像素格角落的頂點和像素格中心所在的直線上,且與臨近像素格角落的頂點距離為s。
4.一種電潤濕顯示器件,其包括權利要求1至2或3任一項所述的一種電潤濕顯示陣列基板,其特征在于,還包括:設置在所述疏水層(5)上的非極性液體(7),設置在所述非極性液體(7)上的極性液體(8),設置在所述極性液體(8)上的上電極層(2),設置在所述上電極層(2)上的上基板(1),以及用于封裝的膠框(9)。
5.根據權利要求4所述的一種電潤濕顯示器件,其特征在于:所述陣列基板包括多個柱形結構(10),所述多個柱形結構(10)以臨近的像素格角落的頂點為圓心,半徑為s呈圓弧狀分布。
6.一種電潤濕顯示器件,包括權利要求1至2或3任一項所述的一種電潤濕顯示陣列基板。
7.一種電潤濕陣列基板的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)提供下基板(3);
2)在下基板(3)上制備下電極層(4);
3)蝕刻下電極層(4)形成開口(11),所述開口(11)位于柱形結構(10)所在的像素格角落設置;
4)在具有開口(11)的下電極層(4)上涂敷疏水層(5);
5)在疏水層(5)上制備像素墻材料(65);
6)所述像素墻材料(65)經過曝光顯影,得到圖案化的像素墻(6)和柱形結構(10),所述像素墻(6)圍成像素格,所述柱形結構(10)位于所述像素格內且臨近像素格角落設置。
8.一種電潤濕陣列基板的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)提供下基板(3);
2)在下基板(3)上制備下電極層(4);
3)在下電極層(4)上制備光刻膠(66);
4)所述光刻膠(66)經曝光顯影,得到圖案化的絕緣層(15),所述絕緣層(15)位于柱形結構(10)所在的像素格角落設置;
5)涂覆疏水層(5),所述疏水層(5)覆蓋所述絕緣層(15)以及未被所述絕緣層(15)所覆蓋的所述下電極層(4)部分;
6)在疏水層(5)上制備像素墻材料(65);
7)所述像素墻材料(65)經過曝光顯影,得到圖案化的像素墻(6)和柱形結構(10),所述像素墻(6)圍成像素格,所述柱形結構(10)位于所述像素格內且臨近像素格角落設置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于深圳市國華光電科技有限公司,未經深圳市國華光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810361384.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





