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[發明專利]一種單晶硅坩堝在審

專利信息
申請號: 201810360150.1 申請日: 2018-04-20
公開(公告)號: CN108396373A 公開(公告)日: 2018-08-14
發明(設計)人: 周儉 申請(專利權)人: 周儉
主分類號: C30B15/10 分類號: C30B15/10;C30B29/06
代理公司: 北京元中知識產權代理有限責任公司 11223 代理人: 王明霞
地址: 美國馬鞋路比*** 國省代碼: 美國;US
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摘要:
搜索關鍵詞: 坩堝 單晶硅 石英坩堝 瓣體 側壁 通孔 兩段式結構 單元連接 底部中心 應力集中 有效控制 中心設置 逐漸增大 坩堝本體 坩堝側壁 受熱 拆卸 配置 盛放 連通 膨脹
【說明書】:

本發明公開了一種單晶硅坩堝,包括坩堝部本體,配置為盛放石英坩堝;所述坩堝部包括第一坩堝單元,配置為坩堝部的底部,包括至少兩部分的瓣體圍成,第一坩堝單元的中心設置有通孔;第二坩堝單元,與第一坩堝單元連接,形成坩堝部的側壁;孔單元,設置于第二坩堝單元,連通坩堝部的內外空間;孔單元在第二坩堝單元圓周方向上所占的比例,自坩堝部底部一側向另一側逐漸增大。本發明將坩堝本體設置為兩段式結構,并在底部中心設置有通孔,避免了當坩堝受熱時,內部石英坩堝膨脹帶來的應力集中,同時底部由瓣體結構圍成,拆卸便捷;坩堝側壁減少了側壁厚度,增大了坩堝的容積,有效控制單晶硅氧含量以及單晶硅產量等優點。

技術領域

本發明屬于半導體及太陽能晶體生長設備技術領域,具體地說,涉及一種單晶硅坩堝。

背景技術

單晶硅為一種半導體材料,一股用于制造集成電路和其它電子元件,進入21世紀后,為應對日益嚴重的環境問題,對清潔能源的需求促進了光伏市場的發展,晶體硅太陽能電池是光伏行業的主導產品,占市場份額的90%。在中國市場的拉動下,我國太陽能光伏發電產業發展迅速,我國太陽能電池年產量由原來占世界份額的1%發展到世界份額的70%以上。與其它晶體硅太陽能電池相比,單晶硅太陽能電池的轉化率較高,但其生產成本也高。隨著世界各國對太陽能光伏產業的進一步重視,特別是中國等用電大國制定了一系列的扶持政策,鼓勵開發利用太陽能,另外,隨著硅太陽能電池應用面的不斷擴大,太陽能電池的需求量越來越大,硅單晶材料的需求量也就同比擴大。

單晶硅生長技術有兩種:區熔法和直拉法,其中直拉法是目前普遍采用的方法。在直拉法生長單晶硅的方法中,主要運用的是熔體的冷凝結晶驅動原理,在固液界面處,藉由熔體溫度下降,將產生由液體轉換成固態的相變化。為了生長質量合格(硅單晶電阻率、氧含量及氧濃度分布、碳含量、金屬雜質含量、缺陷等)的單晶硅棒,在采用直拉法生長時,必須考慮以下問題。首先是根據技術要求,選擇使用合適的單晶生長設備,其次是要掌握一整套單晶硅的制備工藝、技術,包括:單晶硅系統內的熱場設計,確保晶體生長有合理穩定的溫度梯度;單晶硅生長系統內的氬氣氣體系統設計;單晶硅挾持技術系統的設計;為了提高生產效率的連續加料系統的設計;單晶硅制備工藝的過程控制。

熱的傳輸靠三種主要模式,亦即輻射、對流及熱傳導。由于晶體的生長是在高溫下進行,所以這三種模式都存在于系統中。在直拉法里,熔體是藉由石墨加熱器的輻射熱而被加熱,而熔體內部的熱傳導則是主要靠著對流,晶棒內部的熱傳輸主要靠著傳導。另外,從液面及晶棒表面散失到外圍的熱則是藉由輻射作用。系統內的溫度分布對晶體生長的速度(即產量,進而成本)有很大的影響,其對單晶質量也有很大的影響,包括單晶內部缺陷的大小、密度與分布,氧的含量及氧的析出物生成等。

申請號為CN201510369177.3的中國專利公開了一種單晶爐用炭素材料組合坩堝,包括由炭-炭復合材料或石墨材料制成的組合坩堝堝體,所述組合坩堝堝體包括堝筒、堝碗、堝托,所述堝筒為圓筒狀,所述堝碗底部設有圓孔,堝碗由至少2瓣堝碗構件組成;所述堝托中間設有與堝碗底部圓孔相適配的凸臺,凸臺上設有與石英坩堝相適配的凹圓弧,堝碗裝配在堝托上,堝筒裝配在堝碗上沿,堝筒的底端與堝碗上部搭接。

雖然上述現有技術提供了一種使用炭素材料組合的坩堝,但由于炭素材料由純碳元素組成的炭纖維增強炭基體復合材料,其成型由炭纖維網胎和炭布經疊層復合成預制件,其徑向導熱性能較差,存在著能源消耗過大、且得到的單晶硅氧含量高,進而影響其電性能的問題。

因此,有必要對現有技術的不足和缺陷進行改進,提供一種單晶硅坩堝,坩堝本體設置為兩段式結構,并在底部中心設置有通孔,避免了當坩堝受熱時,內部石英坩堝膨脹帶來的應力集中,同時底部由瓣體結構圍成,拆卸便捷;由于采用碳-碳復合材料的坩堝側壁可以減少了側壁厚度,相對增大了坩堝的容積,提高單晶硅的產量;側壁孔單元的設置,提高了加熱器發熱體對石英坩堝及硅熔體的熱量傳遞,在使用時節省能源,通過在側壁上設置不同尺寸、不同形狀或者分布密度不同的孔單元,可以有效控制硅熔體內部溫度梯度的分布,控制硅熔體的對流,從而降低單晶硅的氧含量等優點。

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