[發明專利]一種用于去除水中氯離子的電化學氧化裝置有效
| 申請號: | 201810359222.0 | 申請日: | 2018-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN108439553B | 公開(公告)日: | 2021-04-16 |
| 發明(設計)人: | 于萍;羅運柏 | 申請(專利權)人: | 武漢大學 |
| 主分類號: | C02F1/461 | 分類號: | C02F1/461;C02F1/72;C02F101/12 |
| 代理公司: | 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 程欣 |
| 地址: | 430072 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 去除 水中 氯離子 電化學 氧化 裝置 | ||
1.一種電化學氧化裝置去除水中氯離子的應用,其特征在于:所述電化學氧化裝置包括直流穩壓電源(1)、恒流泵(2)、貯槽(3)、氧化除氯池(4)、氣體收集池(5)、排水貯槽(6)和轉子流量計(7),所述貯槽(3)和排水貯槽(6)分別與氧化除氯池(4)連接,貯槽(3) 與氧化除氯池(4)之間設置有恒流泵(2),氧化除氯池(4)頂部設置有氣體出口,所述氧化除氯池(4)通過氣體出口與氣體收集池(5)連通;所述氧化除氯池(4)和氣體收集池(5)之間設置有轉子流量計(7);所述氧化除氯池(4)中設置有與直流穩壓電源(1)連接的電極陣列;所述電極陣列包括鈦片基底的氧化物陽極和鈦片陰極;所述鈦片基底的氧化物陽極以鈦為基底,其表面依次修飾有中間層和氧化層,中間層為0.2-0.4mm厚的SnO2和Sb2O5的混合層,氧化層為CeO2層;所述氧化物陽極的制備步驟如下:(1)鈦片的預處理:將鈦片用砂紙打磨,呈現出光亮色澤,用濃度為12-18%的鹽酸浸泡30-40分鐘,然后用去離子水沖洗;
(2)向處理好的鈦片表面均涂三氯化銻與四氯化錫配的乙醇溶液,控制錫與銻的摩爾比為12:1-6:1, 乙醇的添加量能將三氯化銻與四氯化錫溶解即可;當兩面涂勻后于80-90攝氏度條件下烘干,取出后在550-600攝氏度條件下煅燒10分鐘;上述步驟重復5-8次,最后一次的煅燒時間為2小時,得到具備中間層的電極,備用;
(3)取淡黃色氧化鈰及硝酸銅加水和硝酸使之溶解并控制其pH=1.5得到電解液;所述電解液中氧化鈰的濃度為6-12g/L;所述硝酸銅的濃度為12-24g/L;
(4)將步驟2制得的具備中間層的電極置于步驟3中的電解液中,以兩片不銹鋼片為陰極,在80-85攝氏度條件下通電,控制電流為1.2A-1.5A,攪拌,電解4-4.5小時后即得氧化物陽極。
2.如權利要求1所述的應用,其特征在于:所述鈦片陰極為網狀。
3.如權利要求1所述的應用,其特征在于:所述氧化除氯池(4)的下部設置有供電極抽插的插槽。
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