[發(fā)明專利]一種表面拋光系統(tǒng)及其拋光方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810357375.1
• 申請日: 2018-04-20
• 公開（公告）號: CN108356685B
• 公開（公告）日: 2023-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 沈秀登
• 申請（專利權(quán)）人: 象山通大機械制造有限公司
• 主分類號: B24B29/02
• 分類號: B24B29/02;B24B27/00;B24B9/04;B24B47/12;B24B41/02;B24B47/04;B24B55/06;C25F3/16;B23H5/08
• 代理公司: 寧波甬恒專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33270
• 代理人: 顧賽喜

1.一種表面拋光系統(tǒng)，其特征在于，包括拋光設(shè)備，所述拋光設(shè)備包括傳動機構(gòu)、側(cè)拋光機構(gòu)以及內(nèi)拋光機構(gòu)，所述側(cè)拋光機構(gòu)可移動地設(shè)置于所述傳動機構(gòu)和所述內(nèi)拋光機構(gòu)中間，所述傳動機構(gòu)包括定位絲桿、定位架以及傳動圓盤，所述定位架連接所述定位絲桿和所述傳動圓盤，所述定位架隨著所述定位絲桿的轉(zhuǎn)動而上下移動，所述傳動圓盤的外邊緣連接罐體的支撐腿，使得罐體隨著所述傳動圓盤的轉(zhuǎn)動而旋轉(zhuǎn)，所述側(cè)拋光機構(gòu)設(shè)有兩對側(cè)拋光輪，所述側(cè)拋光輪可調(diào)節(jié)地貼合于罐體的外壁，得以對罐體的外側(cè)進行拋光，所述內(nèi)拋光機構(gòu)設(shè)有一內(nèi)拋光輪，所述內(nèi)拋光輪可伸展調(diào)節(jié)地向罐體內(nèi)壁延伸，其中，所述側(cè)拋光機構(gòu)包括移動軌道、移動基座以及一對側(cè)拋光構(gòu)件，所述移動基座可滑動地安裝于所述移動軌道上，所述側(cè)拋光構(gòu)件分別設(shè)置于罐體的兩側(cè)，所述側(cè)拋光機構(gòu)安裝于所述移動基座上，其中，各個所述側(cè)拋光構(gòu)件包括一對所述側(cè)拋光輪、調(diào)節(jié)架以及調(diào)節(jié)座，所述調(diào)節(jié)座安裝于所述移動基座上，所述調(diào)節(jié)架連接所述側(cè)拋光輪和所述調(diào)節(jié)座，所述調(diào)節(jié)架安裝有調(diào)節(jié)桿，所述調(diào)節(jié)座的兩側(cè)設(shè)有多個調(diào)節(jié)孔，所述調(diào)節(jié)桿可調(diào)節(jié)地貫穿所述調(diào)節(jié)架和所述調(diào)節(jié)座上的調(diào)節(jié)孔，所述調(diào)節(jié)架的底部彈性地安裝于所述調(diào)節(jié)座，其中，所述調(diào)節(jié)孔在所述調(diào)節(jié)座上由高到低傾斜向外排列，當(dāng)所述調(diào)節(jié)桿放置于高位的所述調(diào)節(jié)孔時，兩對所述側(cè)拋光輪之間的距離變小，當(dāng)所述調(diào)節(jié)桿設(shè)置于低位的所述調(diào)節(jié)孔時，兩對所述側(cè)拋光輪之間的距離變大。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表面拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述定位架包括定位部以及傳動部，所述定位部可上下移動地連接于所述定位絲桿，所述傳動部連接所述定位部和所述傳動圓盤。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表面拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述傳動機構(gòu)進一步包括傳動構(gòu)件，所述傳動構(gòu)件安裝于所述傳動部內(nèi)，所述傳動構(gòu)件包括傳動電機、第一傳動齒輪以及第二傳動齒輪，所述傳動電機連接所述第一傳動齒輪，所述第二傳動齒輪嚙合于所述第一傳動齒輪，所述第二傳動齒輪連接于所述傳動圓盤。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的表面拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述傳動圓盤包括外圓盤以及內(nèi)圓盤，所述內(nèi)圓盤同軸固接于所述外圓盤，所述外圓盤設(shè)有傳動桿和限位槽，所述傳動桿軸向連接于所述第二傳動齒輪，所述限位槽間隔地形成于所述外圓盤的外周緣，所述限位槽適配于罐體支撐腿的突出部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的表面拋光系統(tǒng)，其特征在于，所述內(nèi)拋光機構(gòu)進一步包括驅(qū)動構(gòu)件以及伸展構(gòu)件，所述內(nèi)拋光輪連接于所述驅(qū)動構(gòu)件，所述驅(qū)動構(gòu)件和所述內(nèi)拋光輪安裝于所述伸展構(gòu)件的一端，所述驅(qū)動構(gòu)件得以控制所述內(nèi)拋光輪的運轉(zhuǎn)，所述伸展構(gòu)件得以調(diào)節(jié)所述內(nèi)拋光輪在罐體內(nèi)的位置。

6.一種如權(quán)利要求1～5中任一所述表面拋光系統(tǒng)的拋光方法，其特征在于，包括步驟：

S100機械拋光，通過拋光設(shè)備分別對罐體頭部和筒部的內(nèi)外壁同步進行拋光；

S200除油脫脂，對機械拋光后罐體進行清洗；

S300電解拋光，將罐體放入電解槽內(nèi)，連接罐體作為陽極，不溶性金屬作為陰極，二級同時設(shè)置在電解槽內(nèi)，打開電源整流器開關(guān)，進行電解拋光，所述步驟S300包括步驟：

S310在所述電解槽中加入電解拋光液，用鈦制加熱棒加熱至50～80℃，達到要求溫度后停止加熱；

S320將罐體吊裝放入所述電解槽中，連接罐體作為陽極，不溶性金屬作為陰極，二級同時設(shè)置在所述電解槽內(nèi)；

S330打開電源整流器開關(guān)，將電壓調(diào)至12V，工作電流控制在1500～3500A范圍，拋光時間為20～50分鐘；

S400浸泡洗，將電解拋光后的罐體浸泡于清水槽中，浸泡時間為10～20分鐘，再用清水洗凈后烘干或晾干。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的拋光方法，其特征在于，所述S100包括步驟：

S110對內(nèi)外焊縫進行打磨處理；

S120所述拋光設(shè)備從80目拋光盤、180目拋光盤、320目拋光盤、400目拋光盤依次進行拋光，達到電解前粗糙度Ra＜0.7μm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的拋光方法，其特征在于，用鈦制加熱棒加熱至65℃。