[發明專利]用于制備金屬結構的方法

在審

• 申請號: 201810354776.1
• 申請日: 2011-11-23
• 公開（公告）號: CN108559978A
• 公開（公告）日: 2018-09-21
• 發明（設計）人: P.W.德奧里維拉;K.莫;E.阿茨
• 申請（專利權）人: 新型材料萊布尼茲研究所公益性有限責任公司
• 主分類號: C23C18/14
• 分類號: C23C18/14
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 宋莉

1.用于制備金屬結構的方法，包括以下步驟：

(a)將引發劑組合物施加到基底上以形成引發劑層，所述引發劑組合物包含光催化活性無機物質作為引發劑；

(b)將包含用于金屬層的前體化合物的溶液的前體組合物施加到所述引發劑層上以形成前體組合物層；

(c)將結構模板施加到前體組合物層上，部分擠出前體組合物；

(d)通過在引發劑上的電磁輻射作用將前體化合物還原成金屬，

其中光催化活性無機物質是以納米棒的形式的TiO₂，且結構模板為圖章。

2.如權利要求1中的方法，其中在步驟(d)之后通過沖洗表面移除未還原的過量前體組合物。

3.如權利要求1或2中的方法，其特征在于所述納米棒具有小于100nm的直徑和小于500nm的長度。

4.如權利要求3中的方法，其特征在于所述納米棒具有小于50nm的直徑和小于400nm的長度。

5.如權利要求1或2中的方法，其特征在于所述納米棒具有30～100nm的長度，長度和直徑的比值在10:1和3:1之間。

6.如權利要求1或2中的方法，其特征在于所述引發劑組合物在至少一種溶劑中包括納米棒的分散體。

7.如權利要求6中的方法，其特征在于所述納米棒的比例是小于20重量％。

8.如權利要求7中的方法，其特征在于所述納米棒的比例是在0.5～3重量％。

9.如權利要求6的方法，其特征在于所述溶劑是具有沸點小于150℃的溶劑。

10.如在前述權利要求任一項的方法，其特征在于結構模板包括具有小于500μm最小橫向尺寸的結構。

11.如權利要求1至9中任一項的方法，其特征在于前體化合物為銀、金或銅復合物。

12.如權利要求11中的方法，其特征在于所述復合物包括螯合配體。

13.如權利要求12中的方法，其特征在于所述螯合配體是具有多個羥基和/或氨基的化合物。

14.如權利要求13中的方法，其特征在于所述具有多個羥基和/或氨基的化合物具有小于200g/mol的分子量。

15.如權利要求1至9中任一項的方法，其特征在于引發劑組合物的施加之前預處理基底的表面，所述預處理包括等離子處理、電暈處理、火焰處理和/或施加并固化有機-無機涂層。

16.如權利要求1至9中任一項的方法，其特征在于引發劑組合物包括形成基體的成分。

17.如權利要求1或2中的方法，其特征在于所述電磁輻射是用于激發所述引發劑的波長輻射。

18.如權利要求1至9中任一項的方法，其特征在于在步驟(b)將前體組合物施加于結構模板上，在步驟(c)使前體組合物與結構模板一起施加于引發劑層上。

19.如權利要求1或2的方法，其特征在于所述結構模板為圖章，在步驟(c)將壓花圖章在完全區域負重，以如此的方式使得后續曝光引發劑層的電子束路徑保持未受阻止。