[發明專利]EUV光源液滴發生裝置及其溫度控制系統

在審

• 申請號: 201810354424.6
• 申請日: 2018-04-19
• 公開（公告）號: CN108445927A
• 公開（公告）日: 2018-08-24
• 發明（設計）人: 張立佳;張理垟;郭馨;王巖慶;范元媛;李慧;吳曉斌;齊月靜;周翊
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電研究院;中國石油大學（北京）
• 主分類號: G05D23/19
• 分類號: G05D23/19;G03F7/20
• 代理公司: 北京辰權知識產權代理有限公司 11619
• 代理人: 郎志濤

1.一種用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統包括依次連接的壓縮機、冷凝器、節流裝置和蒸發器，所述蒸發器設置于所述換熱室內，所述換熱室內儲存有與所述蒸發器進行熱交換的流體，所述溫度控制系統還包括流通管，所述流通管的第一端與所述換熱室連通，所述流通管的第二端與用于冷卻EUV光源液滴發生裝置的冷卻裝置連通，所述換熱室內的流體能夠通過所述流通管流入所述冷卻裝置對所述EUV光源液滴發生裝置降溫，其中，所述流通管上設置有與控制器連接的流量調節閥，所述控制器通過所述流量調節閥調節流入所述冷卻裝置的流體流量，通過不同的流體流量調節所述EUV光源液滴發生裝置的溫度。

2.根據權利要求1所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統還包括回流管，所述回流管的第一端與所述冷卻裝置連通，所述回流管的第二端與所述換熱室連通，所述換熱室流入所述冷卻裝置的流體經過換熱后能夠通過所述回流管回流至所述換熱室。

3.根據權利要求2所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統還包括第一溫度傳感器，所述第一溫度傳感器設置于所述EUV光源液滴發生裝置上并與所述控制器連接，所述控制器根據所述第一溫度傳感器檢測到的所述EUV光源液滴發生裝置的溫度信號控制所述流量調節閥的開度大小。

4.根據權利要求3所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統還包括第二溫度傳感器，所述第二溫度傳感器設置于所述流通管和\或所述回流管上并與所述控制器連接，所述控制器根據所述第一溫度傳感器和所述第二溫度傳感器檢測到的溫度信號控制所述流量調節閥的開度大小。

5.根據權利要求4所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統還包括泵，所述泵串聯于所述流通管，用于驅動所述換熱室內的流體流入所述流通管。

6.根據權利要求5所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述冷卻裝置包括冷卻腔和換熱體，所述冷卻腔分別與所述流通管和所述回流管連通，所述換熱體的第一端接觸所述冷卻腔或與所述冷卻腔貫通，所述換熱體的第二端接觸所述EUV光源液滴發生裝置。

7.根據權利要求6所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，其特征在于，所述溫度控制系統還包括電加熱器，所述電加熱器與所述控制器連接并接觸所述EUV光源液滴發生裝置，所述控制器根據所述第一溫度傳感器檢測到的所述EUV光源液滴發生裝置的溫度信號控制所述電加熱器加熱所述EUV光源液滴發生裝置的加熱功率。

8.一種EUV光源液滴發生裝置，其特征在于，所述EUV光源液滴發生裝置包括：

儲料箱，所述儲料箱內儲存有液滴靶原料；

噴管，設置于所述儲料箱的底部并與所述儲料箱連通，所述儲料箱內儲存的所述液滴靶原料能夠經過所述噴管的噴嘴噴射出去形成液滴靶；

激光器，所述激光器靠近所述噴管設置，所述激光器能夠聚焦于從所述噴管的所述噴嘴噴射的所述液滴靶形成所述EUV光源；

溫度控制系統，所述溫度控制系統為權利要求1至7中任一項所述的用于EUV光源液滴發生裝置的溫度控制系統，所述溫度控制系統包括兩套所述電加熱器以及兩套由所述流通管、所述冷卻裝置和所述回流管組成的溫度控制組合結構，所述儲料箱的側壁設置有兩套溫度控制組合結構中的第一套溫度控制組合結構的所述冷卻裝置和兩套電加熱器中的第一套電加熱器，用于調節所述儲料箱內的所述液滴靶原料的溫度，所述噴管的側壁設置有所述兩套溫度控制組合結構中的第二套溫度控制組合結構的所述冷卻裝置和所述兩套電加熱器中的第二套電加熱器，用于調節所述噴管內的液態液滴靶原料的溫度。