[發明專利]具有內凹表面的反光膜及光伏設備在審
| 申請號: | 201810353615.0 | 申請日: | 2018-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN110391313A | 公開(公告)日: | 2019-10-29 |
| 發明(設計)人: | 譚凱龍;劉雪洲 | 申請(專利權)人: | 張家港康得新光電材料有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/054 | 分類號: | H01L31/054;H01L31/05 |
| 代理公司: | 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103 | 代理人: | 范晴;顧天樂 |
| 地址: | 215634 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 內凹表面 基材層 反光膜 光伏設備 金屬反射層 微結構 側向 形貌 厚度降低 制作工藝 逐漸減小 側平面 入射光 開口 局限 | ||
1.一種具有內凹表面的反光膜,其特征在于,包括:
基材層,所述基材層于其厚度方向在上側設有若干內凹表面,所述內凹表面與上側平面構成微結構;所述內凹表面在基材層上構成的開口大小從基材層的上側向基材層厚度方向上的下側逐漸減小;
金屬反射層,所述金屬反射層設置于內凹表面上。
2.根據權利要求1所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,所述微結構為柱狀結構或倒錐形結構中的任意一種或多種;
所述柱狀結構的橫截面為多邊形或弓形;
所述倒錐形結構為倒圓錐或倒多角錐結構;
所述倒多角錐結構為倒三角錐或倒四角錐。
3.根據權利要求2所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,所述微結構中的至少一種在基材層上有序排列或隨機排列。
4.根據上述任一項權利要求所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,所述內凹表面通過壓印成型、擠壓成型或翻模成型獲得;
所述的壓印成型為紫外壓印、熱壓印、熱固化壓印或微接觸壓印中任意一種。
5.根據權利要求1所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,所述金屬反射層為Ag、Cu、Ni、Cr和Al中任意一種金屬或兩種及兩種以上金屬構成的合金。
6.根據權利要求5所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,所述的金屬反射層采用物理氣相沉積法或電鍍方式沉積在內凹表面上。
7.根據權利要求1所述具有內凹表面的反光膜,其特征是,優選地,所述的基材層為PET層。
8.一種光伏設備,其特征在于,包括上述任一項權利要求所述具有內凹表面的反光膜。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





