[發明專利]一種彩膜基板、液晶顯示面板及彩膜基板的制備方法

有效

• 申請號: 201810349467.5
• 申請日: 2018-04-18
• 公開（公告）號: CN108646482B
• 公開（公告）日: 2021-04-30
• 發明（設計）人: 莫超德
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1362
• 分類號: G02F1/1362;G02F1/1335;G02B1/11;G02F1/1339
• 代理公司: 深圳匯智容達專利商標事務所(普通合伙) 44238
• 代理人: 潘中毅;熊賢卿

1.一種彩膜基板，其特征在于，其與BOA陣列基板相配合，包括：

透明基板(1)；

設置于所述透明基板(1)上的減反射膜層(2)，所述減反射膜層(2)上形成有灰階層(21)以及至少一柱狀隔墊物(22)；其中，所述灰階層(21)的下表面與所述透明基板(1)相接觸，且其上表面上形成有所述柱狀隔墊物(22)；所述柱狀隔墊物(22)上形成有與所述灰階層(21)上表面均相連的第一側面(221)和第二側面(222)，且所述第一側面(221)和所述第二側面(222)之中至少有一個與所述灰階層(21)上表面之間形成一定銳角的關系；

設置于所述灰階層(21)及所述柱狀隔墊物(22)上的金屬導電層(3)，所述金屬導電層(3)因所述柱狀隔墊物(22)的第一側面(221)和第二側面(222)之中至少有一個與所述灰階層(21)上表面之間形成一定銳角的關系，使得其以所述柱狀隔墊物(22)為斷點呈不連續性連接狀態；

其中，所述透明基板(1)、減反射膜層(2)及金屬導電層(3)的光折射率依次增大，用以減少光依次從所述透明基板(1)、減反射膜層(2)及金屬導電層(3)至所述BOA陣列基板中的反射能量。

2.如權利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述柱狀隔墊物(22)為倒梯形柱體，且其上形成的第一側面(221)和第二側面(222)之中至少有一個與所述灰階層(21)上表面之間形成小于等于45度的銳角。

3.如權利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述柱狀隔墊物(22)有多個；其中，所述多個柱狀隔墊物(22)之中奇數位的高度均相等，所述多個柱狀隔墊物(22)之中偶數位的高度均相等，且所述多個柱狀隔墊物(22)之中奇數位的高度應大于其對應偶數位的高度。

4.如權利要求3所述的彩膜基板，其特征在于，所述減反射膜層(2)的折射率為及其厚度為其中，n為所述減反射膜層(2)的光折射率，n1為所述透明基板(1)的光折射率，n2為所述金屬導電層(3)的光折射率，e為所述減反射膜層(2)的厚度，λ為波長550nm的綠光波長。

5.如權利要求4所述的彩膜基板，其特征在于，所述減反射膜層(2)的折射率為1.7，且其厚度應大于2um。

6.如權利要求5所述的彩膜基板，其特征在于，所述減反射膜層(2)采用聚酯類聚合物材料制作而成。

7.如權利要求6所述的彩膜基板，其特征在于，所述透明基板(1)由石英、玻璃或透明塑料制作而成，所述金屬導電層(3)由銦錫氧化物ITO制作而成。

8.一種液晶顯示面板，其特征在于，包括如權利要求1-7中任一項所述的彩膜基板和BOA陣列基板。

9.如權利要求8所述的液晶顯示面板，其特征在于，所述BOA陣列基板包括：

襯底基板；

設置于所述襯底基板上的薄膜晶體管柵極；

覆蓋于所述薄膜晶體管柵極上的柵極絕緣層；

設置于所述柵極絕緣層上的有源層、薄膜晶體管源極及漏極；

覆蓋于所述有源層、薄膜晶體管源極及漏極上的第一鈍化層；

設置于所述第一鈍化層上的彩色濾光層；

覆蓋于所述彩色濾光層上的第二鈍化層；

設置于所述第二鈍化層上的像素電極及黑色矩陣塊；其中，所述像素電極依次通過所述第二鈍化層、彩色濾光層和第一鈍化層與所述薄膜晶體管源極相連；所述黑色矩陣塊位于所述彩色濾光層中兩種相異顏色的拼接處的上方。

10.一種彩膜基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟S1、提供一透明基板；

步驟S2、在所述透明基板的上表面上形成減反射膜層，并對所述減反射膜層進行背面曝光，使所述減反射薄膜層在與所述透明基板相接觸的一側端面上固化出灰階層；

步驟S3、對所述減反射膜層進行正面曝光、顯影及刻蝕，使得所述灰階層上表面上形成有至少一柱狀隔墊物；其中，所述柱狀隔墊物上形成有與所述灰階層上表面均相連的第一側面和第二側面，且所述第一側面和所述第二側面之中至少有一個與所述灰階層上表面之間形成一定銳角的關系；所述減反射膜層的光折射率大于所述透明基板的光折射率，用以減少光反射能量；

步驟S4、在所述灰階層及所述柱狀隔墊物的上表面形成金屬導電層，所述金屬導電層因所述柱狀隔墊物的第一側面和第二側面之中至少有一個與所述灰階層上表面之間形成一定銳角的關系，使得其以所述柱狀隔墊物為斷點呈不連續連接狀態；其中，所述金屬導電層的光折射率大于所述減反射膜層的光折射率，用以減少光反射能量。