[發明專利]一種顯示面板、顯示裝置和顯示裝置的制作方法有效
| 申請號: | 201810344535.9 | 申請日: | 2018-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN108574054B | 公開(公告)日: | 2020-03-06 |
| 發明(設計)人: | 王有為;張嵩;蔡鵬;謝春燕;劉歡 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京安信方達知識產權代理有限公司 11262 | 代理人: | 張京波;曲鵬 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 顯示 面板 顯示裝置 制作方法 | ||
1.一種顯示面板,其特征在于,包括:顯示區,以及位于所述顯示區內部和周邊的非顯示區;
所述顯示面板的基板上設置有隔離柱,且所述隔離柱將所述顯示區與所述非顯示區之間的發光層隔離開;
所述隔離柱的上方和側壁被原子層沉積ALD層包裹,所述顯示區與所述隔離柱相鄰的像素中,薄膜晶體管陣列層的上方設置有所述ALD層,所述ALD層上的發光層與所述顯示區的發光層被所述隔離柱隔離開;
所述發光層上設置有封裝層,使所述顯示區的發光層被所述ALD層和封裝層緊密包裹;所述封裝層包括第一無機阻水層、有機緩沖層和第二無機阻水層,所述第一無機阻水層設置于所述發光層上,所述有機緩沖層設置于所述顯示區的發光層上,所述第二無機阻水層將所述第一無機阻水層和所述有機緩沖層包裹。
2.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述隔離柱為倒梯形結構。
3.根據權利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述ALD層包括氧化硅材質或氧化鋁材質。
4.一種顯示裝置,其特征在于,包括:如權利要求1~3中任一項所述的顯示面板,所述顯示面板的非顯示區包括以下一項或多項:所述顯示裝置的攝像頭、傳感器、實體按鍵和顯示屏的邊框。
5.一種顯示裝置的制作方法,其特征在于,包括:
在顯示裝置的基板上形成隔離柱,所述隔離柱用于將所述顯示裝置的顯示區與非顯示區分隔開;
在所述隔離柱的上方和側壁形成原子層沉積ALD層,所述ALD層還形成于所述顯示區中與所述隔離柱相鄰像素的薄膜晶體管陣列層的上表面;
形成所述顯示區和所述非顯示區的發光層,其中,所述顯示區的發光層與所述非顯示區中所述ALD層上的發光層被所述隔離柱隔離開;
在所述發光層上形成封裝層,所述封裝層包括第一無機阻水層、有機緩沖層和第二無機阻水層,使所述顯示區的發光層被所述ALD層和封裝層緊密包裹;
所述在所述發光層上形成封裝層,包括:
在所述發光層上形成所述第一無機阻水層;
在所述第一無機阻水層位于所述顯示區的上方形成所述有機緩沖層;
在所述第一無機阻水層和所述有機緩沖層上形成所述第二無機阻水層,其中,所述第二無機阻水層將所述第一無機阻水層和所述有機緩沖層包裹。
6.根據權利要求5所述的顯示裝置的制作方法,其特征在于,所述在顯示裝置的基板上形成隔離柱之前,所述方法還包括:
在所述基板位于所述顯示區的位置形成薄膜晶體管陣列層;
所述在顯示裝置的基板上形成隔離柱,包括:
通過掩膜工藝在所述基板位于所述顯示區和所述非顯示區交界的位置形成倒梯形結構的隔離柱。
7.根據權利要求5所述的顯示裝置的制作方法,其特征在于,所述ALD層為氧化硅材質或氧化鋁材質。
8.根據權利要求5~7中任一項顯示裝置的制作方法,其特征在于,所述非顯示區包括以下一項或多項:所述顯示裝置的攝像頭、傳感器、實體按鍵和顯示屏的邊框。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





