[發明專利]殼體的表面處理方法、殼體

有效

• 申請號: 201810337823.1
• 申請日: 2018-04-16
• 公開（公告）號: CN108686911B
• 公開（公告）日: 2021-06-15
• 發明（設計）人: 張維;吳曉楠;羅逸;林四亮;余江
• 申請（專利權）人: 維沃移動通信有限公司
• 主分類號: B05D7/00
• 分類號: B05D7/00;C23C14/20;C23C14/58;C23C14/08;H04M1/02
• 代理公司: 北京國昊天誠知識產權代理有限公司 11315
• 代理人: 許志勇;劉昕

1.一種殼體的表面處理方法，其特征在于，包括：

在殼體的內表面噴涂底漆層，其中，所述殼體的透光率大于預定值，所述底漆層為無色、透明態；

在所述底漆層上鍍金屬膜層；

去除所述內表面上預設區域內的所述金屬膜層；

在所述預設區域鍍光學反光膜層。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述預設區域鍍光學反光膜層的步驟，包括：

在真空環境下加熱氧化物靶材；

控制使所述氧化物靶材轉變為原子或分子；

控制所述原子或分子沉積或吸附在所述預設區域形成所述光學反光膜層。

3.如權利要求2所述的方法，其特征在于，所述氧化物靶材包括二氧化硅和二氧化鈦；

其中，所述光學反光膜層包括兩層二氧化鈦膜層和位于所述兩層二氧化鈦膜層之間的二氧化硅膜層。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述底漆層上鍍金屬膜層的步驟，包括：

在真空環境下加熱金屬靶材，使所述金屬靶材轉變為金屬原子；

控制所述金屬原子沉積或吸附在所述底漆層表面形成所述金屬膜層。

5.如權利要求1至4任一項所述的方法，其特征在于，所述方法還包括:

在所述殼體的外表面噴涂以形成色漆層；在溫度為75℃的環境下烘烤所述色漆層15-20分鐘；

在烘烤后的色漆層上噴涂以形成第一面漆層；在溫度為50-60℃、UV能量為800-1000毫焦/平方厘米的環境下烘烤所述第一面漆層。

6.如權利要求5所述的方法，其特征在于，所述去除所述內表面上預設區域內的所述金屬膜層的步驟之前，所述方法還包括：

在所述金屬膜層上噴涂以形成中漆層；在溫度為50-60℃、UV能量為500-700毫焦/平方厘米的環境下烘烤所述中漆層；

其中，所述去除所述內表面上預設區域內的所述金屬膜層的步驟，包括：

去除所述內表面上預設區域內的所述金屬膜層和所述中漆層。

7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述去除所述內表面上預設區域內的所述金屬膜層和所述中漆層的步驟，包括：

在所述內表面上確定所述預設區域；

采用紫外光雕刻的方式去除所述預設區域內的所述金屬膜層和所述中漆層。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述在所述預設區域鍍光學反光膜層的步驟之前，所述方法還包括：

采用酒精和丙酮的混合液清洗所述預設區域。

9.如權利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述預設區域鍍光學反光膜層的步驟之后，所述方法還包括：

在所述光學反光膜層上噴涂以形成第二面漆層；在溫度為50-60℃、UV能量為800-1000毫焦/平方厘米的環境下烘烤所述第二面漆層。

10.一種殼體，其特征在于，所述殼體通過如權利要求1至9任一項所述的表面處理方法處理得到。