[發明專利]一種咪唑陽離子修飾碳量子點輔助制備納米金的方法有效
| 申請號: | 201810337587.3 | 申請日: | 2018-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN108580923B | 公開(公告)日: | 2021-05-04 |
| 發明(設計)人: | 李洪光;孫曉峰 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘭州化學物理研究所;中國科學院大學 |
| 主分類號: | B22F9/24 | 分類號: | B22F9/24;B22F1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司: | 蘭州中科華西專利代理有限公司 62002 | 代理人: | 周瑞華 |
| 地址: | 730000 甘*** | 國省代碼: | 甘肅;62 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 咪唑 陽離子 修飾 量子 輔助 制備 納米 方法 | ||
1.一種咪唑陽離子修飾碳量子點輔助制備納米金的方法,其特征在于具體步驟如下:
①晶種的配置:將氯金酸水溶液加入碳量子點水溶液中,然后加入硼氫化鈉水溶液即得晶種,晶種在2 ~ 4 h之后使用;碳量子點水溶液的濃度為0.2~0.5mg×mL-1,HAuCl 4水溶液的濃度為0.01 mol×L-1,NaBH4水溶液的濃度為0.01 mol×L-1;碳量子點水溶液與HAuCl4水溶液的體積比為20:1 ~ 40:1,HAuCl4水溶液與NaBH4水溶液的體積比為1:2 ~ 1:3;
②生長液的配置:將HAuCl4水溶液加入碳量子點水溶液中即得生長液,將等體積的生長液分別裝到A、B、C三個小瓶中,然后再向其中分別加入等體積的抗壞血酸水溶液,向C中加入添加劑;碳量子點水溶液的濃度為0.4~1.0mg×mL-1,HAuCl4水溶液的濃度為0.001 mol×L-1,抗壞血酸水溶液的濃度為0.1 mol×L-1;碳量子點水溶液與HAuCl4水溶液的體積比為2:1 ~ 3:1;加入到A、B、C三個小瓶中的生長液與抗壞血酸水溶液的體積比為10:1 ~ 20:1;加入到A、B、C三個小瓶中的生長液與添加劑的體積比為12:1 ~ 120:1;添加劑的種類為HNO3、HCl或H2SO4;
③向A中加入晶種,振蕩10 s,從A中取與向A中加入的晶種等體積的溶液加入B中,振蕩10 s,再從B中取與向A中加入的晶種等體積的溶液加入到C中,振蕩10 s后,靜置10~ 15h;加入到A、B、C三個小瓶中的生長液與加入晶種的體積比為10:1 ~ 20:1;
所述碳量子點的結構為:
。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院蘭州化學物理研究所;中國科學院大學,未經中國科學院蘭州化學物理研究所;中國科學院大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810337587.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種制備高性能鋁基碳化硅的方法
- 下一篇:一種納米材料液相連續合成方法





