[發明專利]雙面UV減粘膜及其制備方法

在審

• 申請號: 201810333476.5
• 申請日: 2018-04-13
• 公開（公告）號: CN108467691A
• 公開（公告）日: 2018-08-31
• 發明（設計）人: 華路;宋寧;李欣;張潔君
• 申請（專利權）人: 河源軒朗光電科技有限公司
• 主分類號: C09J7/38
• 分類號: C09J7/38;C09J167/06;C09J11/08;C09J11/06
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 舒丁

本發明涉及一種雙面UV減粘膜及其制備方法，該雙面UV減粘膜包括第一有機硅離型膜層、第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層、柔性基材層、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層及第二有機硅離型膜層。該減粘膜的制備方法為采用狹縫涂布技術將第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑分別均勻涂布在柔性基材的兩側面；將第一有機硅離型膜貼覆在上述膜上，形成雙面UV減粘膜。上述的雙面UV減粘膜通過在柔性基材的兩面分別設有第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層，丙烯酸膠黏劑層易粘貼，紫外失粘丙烯酸膠黏劑經紫外光照射后由原來的高粘降低至低粘，使減粘膜易從材料表面剝離，不殘留氣泡，大大地提高產品良率。

技術領域

本發明涉及保護膜技術領域，特別是涉及一種用于保護玻璃鍍膜生產加工的雙面UV減粘膜及其制備方法。

背景技術

在金屬板、塑料板材、觸摸屏、多層陶瓷薄膜、晶圓及玻璃等材料的鍍膜過程中，材料的表面容易受到接觸性污染或者磨痕劃傷，所以通常采用保護膜覆蓋在材料的表面，使其免受損傷和污染。在鍍膜過程結束后，保護膜會被人工或者機器人剝離移除。在傳統技術中，保護膜平面光滑，在機器自動粘貼時保護膜容易有殘留的空氣，沒有被完全排出，而留在被保護材料之間從而產生氣泡，致使保護膜無法完美地貼平，影響產品質量；此外，保護膜撕離后，形成氣泡的地方留有氣泡印，時間久了還可能有殘膠的現象，這些現象都會影響產品的質量和美觀。

發明內容

基于此，有必要針對目前傳統技術存在的問題，提供一種雙面UV減粘膜，其保護材料在加工過程中對原料的損傷，且易粘貼，避免在材料表面產生氣泡，提高產品良率。

本發明還提供上述雙面UV減粘膜的制備方法。

為了實現本發明的目的，本發明采用以下技術方案：

一種雙面UV減粘膜，包括從內到外設置的第一有機硅離型膜層、第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層、柔性基材層、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層及第二有機硅離型膜層。

上述的雙面UV減粘膜通過在柔性基材的兩面分別設有第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層，丙烯酸膠黏劑層易粘貼，紫外失粘丙烯酸膠黏劑經紫外光照射后由原來的高粘降低至低粘，使減粘膜易從材料表面剝離，不殘留氣泡，大大地提高產品良率，加上紫外失粘丙烯酸膠黏劑層上覆有有機硅離型膜，避免紫外失粘丙烯酸膠黏劑在使用前失效，保證丙烯酸膠黏劑的粘接力和剝離力不受外界影響。

在其中一個實施例中，所述第一有機硅離型膜層的厚度小于所述第二有機硅離型膜層的厚度。

在其中一個實施例中，所述第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層經紫外光照射后的粘接力小于所述第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層經紫外光照射后的粘接力；所述第一有機硅離型膜層的離型力克重小于所述第二有機硅離型膜層的離型力克重。

在其中一個實施例中，所述柔性基材層的材料為PET、PP、PC、PVC、TAC中的一種。

在其中一個實施例中，所述第一有機硅離型膜層的厚度為15μm～100μm；所述第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑層的厚度為25μm～100μm；所述柔性基材層的厚度為10μm～250μm；所述第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑層的厚度為15μm～100μm；所述第二有機硅離型膜層的厚度為25μm～100μm。

一種雙面UV減粘膜的制備方法，包括如下步驟：

提供柔性基材、第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑及第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑，采用狹縫涂布技術將第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑、第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑分別均勻涂布在柔性基材的兩側面，形成膜一；

提供第一有機硅離型膜及第二有機硅離型膜，將第一有機硅離型膜貼覆在膜一涂布有第一紫外失粘丙烯酸膠黏劑的一面，將第二有機硅離型膜貼覆在膜一涂布有第二紫外失粘丙烯酸膠黏劑的一面，形成雙面UV減粘膜。