[發(fā)明專利]適用于高壓強環(huán)境的質量分析方法及質譜儀

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810332823.2
• 申請日: 2018-04-13
• 公開（公告）號: CN108519427B
• 公開（公告）日: 2020-02-21
• 發(fā)明（設計）人: 趙占鋒;周志權;姜佩賀;趙宜楠
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業(yè)大學(威海)
• 主分類號: G01N27/62
• 分類號: G01N27/62
• 代理公司: 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109
• 代理人: 岳昕

1.質譜儀，其特征在于，包括質量分析單元(1)、背景氣體源(2)、真空腔(3)、氣體導流裝置(4)、真空泵(5)和氣閥(6)，背景氣體源(2)出氣口與真空腔(3)的進氣口連通，背景氣體源(2)和真空腔(3)的連接氣路上設置有氣閥(6)，真空腔(3)的出氣口連接真空泵(5)，質量分析單元(1)設置于真空腔(3)內，質量分析單元(1)前端開口面向真空腔(3)的進氣口，質量分析單元(1)的尾端設置有抽氣孔，且該抽氣孔通過氣體導流裝置(4)與真空腔(3)的出氣口連通，真空泵(5)工作時，背景氣體源(2)為質量分析單元(1)提供漂移氣；

質量分析單元(1)包括離子源(101)、漂移管(102)、四極質濾器(103)和離子檢測器(104)，四極質濾器(103)設置在漂移管(102)內部，離子源(101)設置在漂移管(102)的前端開口處，離子檢測器(104)設置在漂移管(102)的尾端，漂移管(102)尾端設置有抽氣孔；

樣品在離子源(101)被電離，生成的離子進入質量分析單元(1)，離子沿漂移管(102)向離子檢測器(104)方向運動，在漂移管(102)中通入順向氣流作為離子出阱動力，離子在氣流場和四極電場的共同作用下最終到達離子檢測器(104)，產生譜圖信息；

通過引入氣流，質量分析可承受的最高環(huán)境壓強為225Pa，離子透射率大于0.2。

2.根據權利要求1所述質譜儀，其特征在于，氣閥(6)采用針型閥。

3.根據權利要求1所述質譜儀，其特征在于，所述順向氣流的方向與離子沿漂移管向離子檢測器運動的方向一致。