[發明專利]一種應用于銅鉬膜層的金屬蝕刻液有效
| 申請號： | 201810329296.X | 申請日： | 2018-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN108570678B | 公開（公告）日： | 2021-01-26 |
| 發明（設計）人： | 盧燕燕;張麗燕 | 申請（專利權）人： | 惠州達誠微電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C23F1/18 | 分類號： | C23F1/18;C23F1/26 |
| 代理公司： | 廣州市一新專利商標事務所有限公司 44220 | 代理人： | 趙志遠 |
| 地址： | 516265 廣東省惠州市惠陽區*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 應用于 銅鉬膜層 金屬 蝕刻 | ||
【權利要求書】：
1.一種應用于銅鉬膜層的金屬蝕刻液，其特征在于：其由以下組分按照重量百分比組成：氧化劑10％；有機酸2％；無機酸0.5％；螯合劑1.2％；胺3％；H2O2穩定劑0.5％；無機鹽0.2％；水82.6％；
所述的氧化劑為H2O2；
所述的有機酸為檸檬酸；
所述的無機酸為磷酸；
所述的螯合劑為乙二胺四乙酸；
所述的胺為二乙醇胺；
所述的H2O2穩定劑為植酸，其分子式為：C6H18O24P6；
所述的無機鹽為NH4H2PO4。
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