[發(fā)明專(zhuān)利]一種陶瓷坯自動(dòng)浸釉擦釉設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810326860.2
• 申請(qǐng)日: 2018-04-12
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108748633A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 邰樹(shù)強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 山東蝰蛇智能裝備有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B28B11/04
• 分類(lèi)號(hào): B28B11/04
• 代理公司: 濟(jì)南譽(yù)豐專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙企業(yè)) 37240
• 代理人: 高強(qiáng)

本發(fā)明涉及一種陶瓷坯自動(dòng)浸釉擦釉設(shè)備，包括主機(jī)架、通過(guò)主豎軸安裝在所述主機(jī)架上的轉(zhuǎn)盤(pán)，以及安裝在所述主機(jī)架上且驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)轉(zhuǎn)裝置，所述轉(zhuǎn)盤(pán)上沿周向安裝有若干吊掛裝置，所述吊掛裝置下方設(shè)有連接升降設(shè)備的浸釉裝置，所述升降設(shè)備的一側(cè)設(shè)有位于吊掛裝置下方且沿轉(zhuǎn)盤(pán)旋轉(zhuǎn)方向依次設(shè)置的擦釉裝置和坯體送料裝置。本發(fā)明將浸釉和擦釉集中于同一設(shè)備，不僅降低了勞動(dòng)強(qiáng)度，而且使節(jié)約了工序間的銜接時(shí)間，在后面坯體浸釉時(shí)，給前面已經(jīng)浸釉完成的坯體提供多余釉料滴落的時(shí)間，坯體逐個(gè)浸釉，形成不間斷的流水線，提高了生產(chǎn)效率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及陶瓷產(chǎn)品的生產(chǎn)設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及到一種用于陶瓷杯、陶瓷盤(pán)等產(chǎn)品的陶瓷坯自動(dòng)浸釉擦釉設(shè)備。

背景技術(shù)

在陶瓷杯、陶瓷盤(pán)等生產(chǎn)過(guò)程中，需要對(duì)其外側(cè)壁進(jìn)行浸釉處理，由于陶瓷杯或陶瓷盤(pán)類(lèi)的產(chǎn)品底部是中間凹、周?chē)沟慕Y(jié)構(gòu)，因此為了放置時(shí)不污染桌面，在浸釉完成后將坯體底部凸起部位粘有的釉料擦除。

目前對(duì)于陶瓷坯的浸釉和擦釉多采用人工方式進(jìn)行，占用較多的勞動(dòng)力，且勞動(dòng)強(qiáng)度大，而且生產(chǎn)效率較低。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足，提供一種陶瓷坯自動(dòng)浸釉擦釉設(shè)備，使浸釉和擦釉在同一設(shè)備上完成，減輕了勞動(dòng)強(qiáng)度，提高了生產(chǎn)效率。

本發(fā)明是通過(guò)如下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的，提供一種陶瓷坯自動(dòng)浸釉擦釉設(shè)備，包括主機(jī)架、通過(guò)主豎軸安裝在所述主機(jī)架上的轉(zhuǎn)盤(pán)，以及安裝在所述主機(jī)架上且驅(qū)動(dòng)所述轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)的驅(qū)轉(zhuǎn)裝置，所述轉(zhuǎn)盤(pán)上沿周向安裝有若干吊掛裝置，所述吊掛裝置下方設(shè)有連接升降設(shè)備的浸釉裝置，所述升降設(shè)備的一側(cè)設(shè)有位于吊掛裝置下方且沿轉(zhuǎn)盤(pán)旋轉(zhuǎn)方向依次設(shè)置的擦釉裝置和坯體送料裝置。

本方案在使用時(shí)，通過(guò)坯體送料裝置將坯體送至吊掛裝置下方，將坯體裝在吊掛裝置上，由驅(qū)轉(zhuǎn)裝置驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)過(guò)一定角度，使坯體位于浸釉裝置的正上方，升降設(shè)備帶動(dòng)浸釉裝置上移，使坯體浸入到浸釉裝置內(nèi)的釉料內(nèi)，浸釉完成后，升降設(shè)備帶動(dòng)浸釉裝置下移，驅(qū)轉(zhuǎn)裝置繼續(xù)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)浸有釉料的坯體轉(zhuǎn)至擦釉裝置上方時(shí)，將坯體卸下，放于擦釉裝置上，由擦釉裝置進(jìn)行擦釉，如此逐個(gè)進(jìn)行，形成高效的流水線，在浸釉完成至擦釉之前的時(shí)間段內(nèi)，多余釉料可自行滴落，避免釉料層厚薄不均。

作為優(yōu)化，兩相鄰的吊掛裝置之間的轉(zhuǎn)盤(pán)上開(kāi)設(shè)有豁口，所述驅(qū)轉(zhuǎn)裝置包括圓心處垂直連接有轉(zhuǎn)軸的圓盤(pán)，以及與所述轉(zhuǎn)軸連接的電機(jī)，所述電機(jī)與主機(jī)架固接，所述轉(zhuǎn)軸與圓盤(pán)可拆卸固接，圓盤(pán)上開(kāi)設(shè)有沿圓形均勻分布且沿徑向延伸的調(diào)節(jié)長(zhǎng)孔，所述調(diào)節(jié)長(zhǎng)孔內(nèi)穿設(shè)有撥動(dòng)桿，圓盤(pán)兩側(cè)的撥動(dòng)桿上均設(shè)有調(diào)整螺母，撥動(dòng)桿上遠(yuǎn)離電機(jī)的一端安裝有與所述豁口適配的驅(qū)動(dòng)軸承，相鄰兩撥動(dòng)桿的轉(zhuǎn)動(dòng)距離與相鄰豁口的轉(zhuǎn)動(dòng)距離適配。

本優(yōu)化方案利用電機(jī)帶動(dòng)轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，從而帶動(dòng)圓盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)，撥動(dòng)桿上的軸承撥動(dòng)轉(zhuǎn)盤(pán)上的豁口，從而使轉(zhuǎn)盤(pán)上的產(chǎn)品轉(zhuǎn)動(dòng)一個(gè)工位，圓形排布的撥動(dòng)桿循環(huán)撥動(dòng)，使轉(zhuǎn)盤(pán)間隔均勻的轉(zhuǎn)動(dòng)，保證生產(chǎn)線的順利運(yùn)行，通過(guò)調(diào)節(jié)長(zhǎng)孔可以調(diào)整撥動(dòng)桿距圓盤(pán)中心的距離，以適用不同直徑圓盤(pán)的使用，通過(guò)定位螺母，則可以調(diào)整軸承的高度，適應(yīng)不同高度轉(zhuǎn)盤(pán)的撥動(dòng)。

作為優(yōu)化，所述吊掛裝置包括下端安裝有柔性吸盤(pán)的螺桿和套設(shè)在所述螺桿上的定位板，螺桿內(nèi)設(shè)有與所述柔性吸盤(pán)連通的空腔，所述定位板上方的螺桿上設(shè)有與所述空腔連通的抽氣孔，以及與所述轉(zhuǎn)盤(pán)軸接的橫向轉(zhuǎn)軸，所述抽氣孔連接抽真空裝置。

本優(yōu)化方案的吊掛裝置在使用時(shí)，根據(jù)浸釉高度要求固定定位板的位置，將柔性吸盤(pán)伸至陶瓷坯底部，抽真空裝置通過(guò)抽氣孔抽氣，利用壓差將陶瓷坯與柔性吸盤(pán)緊密連接，柔性吸盤(pán)會(huì)發(fā)生壓縮變形，當(dāng)陶瓷坯的上口頂至定位板時(shí)，完成安裝，從而保證了浸釉高度的一致性。

作為優(yōu)化，所述定位板為鐵板，在吊掛裝置側(cè)方的主機(jī)架上安裝有與各定位板位置適配的電磁鐵，且所述電磁鐵在轉(zhuǎn)盤(pán)轉(zhuǎn)動(dòng)方向上位于浸釉裝置的后方。裝有浸釉完成的坯體的吊掛裝置經(jīng)過(guò)電磁鐵時(shí)，定位板在磁力的作用下向電磁鐵靠近，從而使吊掛裝置及坯體發(fā)生傾斜，使多余釉料的滴落更加快速、徹底。