[發(fā)明專利]基于頻率選擇表面的太赫茲寬帶帶通濾波器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810326408.6 | 申請(qǐng)日： | 2018-04-12 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN108428977A | 公開(kāi)（公告）日： | 2018-08-21 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 亓麗梅;武明靜;陳智嬌;姚遠(yuǎn);俞俊生 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京郵電大學(xué) |
| 主分類號(hào)： | H01P1/20 | 分類號(hào)： | H01P1/20 |
| 代理公司： | 北京風(fēng)雅頌專利代理有限公司 11403 | 代理人： | 陳宙 |
| 地址： | 100876 *** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 頻率選擇表面 寬帶帶通濾波器 太赫茲波 通孔陣列 通孔 偏振光 頻率選擇表面結(jié)構(gòu) 極化不敏感 帶通濾波 單層結(jié)構(gòu) 激光打孔 金屬材料 孔狀結(jié)構(gòu) 上等間隔 周期單元 耦合作用 通過(guò)率 單層 選頻 加工 | ||
1.一種基于頻率選擇表面的太赫茲寬帶帶通濾波器，其特征在于，包括：
頻率選擇表面層，頻率選擇表面層為單層結(jié)構(gòu)；所述頻率選擇表面層的外表面為金屬材料；在所述頻率選擇表面層上設(shè)置有多個(gè)通孔；所述多個(gè)通孔在所述頻率選擇表面層上等間隔排列，形成周期性通孔陣列；其中，通過(guò)太赫茲波與所述周期性通孔陣列之間發(fā)生的耦合作用對(duì)此太赫茲波進(jìn)行選頻。
2.如權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于，
在金屬材料的基片上通過(guò)激光或光刻技術(shù)形成所述周期性通孔陣列。
3.如權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于，
所述頻率選擇表面層的材料包括：銅、鋁、金、銀；
所述頻率選擇表面層的厚度為50μm-5000μm；頻率選擇表面層周期為100-2000μm。
4.如權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于，
在介質(zhì)基片上通過(guò)激光或光刻技術(shù)形成所述周期性通孔陣列，在所述介質(zhì)基片的表面以及形成所述周期性通孔陣列的通孔表面鍍有金屬材料薄膜。
5.如權(quán)利要求4所述的濾波器，其特征在于，
所述金屬材料薄膜的材料包括：銅、鋁、金、銀；
所述金屬材料薄膜的厚度大于或等于200nm。
6.如權(quán)利要求4所述的濾波器，其特征在于，
所述介質(zhì)基片的介質(zhì)材料包括：硅、氧化硅、石英；所述介質(zhì)基片的厚度為150-5000μm。
7.如權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于，
所述頻率選擇表面層由多個(gè)周期單元組成，所述多個(gè)周期單元沿同一個(gè)方向周期排列，形成N×N個(gè)周期單元的排列結(jié)構(gòu)，其中，在每個(gè)周期單元上都設(shè)置有一個(gè)所述通孔。
8.如權(quán)利要求7所述的濾波器，其特征在于，
所述周期單元為正方形，所述周期單元的邊長(zhǎng)長(zhǎng)度為100-2000μm。
9.如權(quán)利要求6所述的濾波器，其特征在于，
所述多個(gè)周期單元的材質(zhì)都為金屬材料；或者，
所述多個(gè)周期單元的材質(zhì)都為鍍有金屬材料薄膜的介質(zhì)材料。
10.如權(quán)利要求1所述的濾波器，其特征在于，
所述通孔包括：圓孔、方孔；所述圓孔的直徑或所述方孔的邊長(zhǎng)與所述頻率選擇表面層周期的比值范圍為0.3-0.7；
其中，太赫茲波垂直所述頻率選擇表面層的表面入射，所述通孔的上、下端口分別為入射端口、出射端口，所述通孔對(duì)太赫茲波進(jìn)行濾波處理。
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