[發(fā)明專利]一種具有裂紋效果的釉面磚及其制備工藝

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810326296.4
• 申請(qǐng)日: 2018-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN108623331B
• 公開（公告）日: 2020-05-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉俊榮;冉艦波;蔣祥莉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 佛山歐神諾陶瓷有限公司
• 主分類號(hào): C04B41/89
• 分類號(hào): C04B41/89
• 代理公司: 佛山市禾才知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44379
• 代理人: 資凱亮;單蘊(yùn)倩

1.一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：包括如下步驟：

（1）將經(jīng)干燥和表面清理后陶瓷磚磚坯，表面噴清水后布施高溫面釉，形成高溫面釉層；所述高溫面釉中含有重量百分比＞55%的二氧化硅，且硅鋁比的比例范圍為2.3~2.5，其施釉量為110±2g/330×660測量盤；

（2）根據(jù)所需圖案設(shè)計(jì)在面釉層上噴印裝飾墨水，形成裝飾圖案層；

（3）在裝飾圖案層上噴印亮光保護(hù)墨水，然后再噴印精雕墨水，并且其噴墨量均為＞30g/m²；

（4）在噴有精雕墨水的磚坯表面噴拋釉，所述拋釉中含有質(zhì)量百分比1.5~3%的超細(xì)氧化鋁，其噴釉量為135±5g/330×660測量盤；

（5）將上述磚坯在入窯前干燥后，經(jīng)高溫?zé)偏@得半成品，并進(jìn)行拋光及磨邊處理，獲得具有裂紋效果的釉面磚。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（1）中所述高溫面釉的比重為1.85±0.05，其始熔點(diǎn)溫度高于1060℃，燒成的溫度范圍為1180~1210℃。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（2）和步驟（3）中的噴印過程中控制陶瓷磚磚坯的溫度在45~55℃范圍內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（4）中所述拋釉的比重為1.45~1.55，細(xì)度為300~350目，篩余為0.2~0.6%。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（4）中所述拋釉的始熔點(diǎn)溫度高于1190℃。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（5）中所述干燥后的磚坯的水分含量≤1.0%，所述高溫?zé)频臏囟葹?180~1210℃，燒成時(shí)間為60~80min。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（2）中采用六通道及以上陶瓷噴墨打印機(jī)，在面釉層上噴印裝飾墨水；步驟（3）中采用陶瓷噴墨打印機(jī)的大墨量噴頭，分別噴印亮光保護(hù)墨水和精雕墨水；所述噴頭為GS40、星光1024L或精工1536中的任意一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（4）中采用4~6根噴槍組成的噴釉柜或水柜，在磚坯表面噴拋釉，其噴槍噴釉方式為固定式噴釉或是擺動(dòng)式噴釉。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有裂紋效果的釉面磚的制備工藝，其特征在于：步驟（5）中的所述拋光的模塊參數(shù)為：400目拋光模塊拋光3組，600目拋光模塊拋光3組，800目拋光模塊拋光4組，1000目拋光模塊拋光3組，1200目拋光模塊拋光3組，1500目拋光模塊拋光3組，2000目拋光模塊拋光3組， 3000目拋光模塊拋光3組，拋光磨頭壓強(qiáng)為0.2~0.25MPa。

10.一種使用如權(quán)利要求1~9任一所述的制備工藝制備得到的具有裂紋效果的釉面磚。