[發明專利]一種共焦雙拋物面天線有效
| 申請號： | 201810326293.0 | 申請日： | 2018-04-12 |
| 公開（公告）號： | CN108649345B | 公開（公告）日： | 2020-08-28 |
| 發明（設計）人： | 王楠;歐乃銘;吳亮;王文濤;郎宇 | 申請（專利權）人： | 中國科學院電子學研究所 |
| 主分類號： | H01Q19/19 | 分類號： | H01Q19/19;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270 | 代理人： | 王軍紅;張穎玲 |
| 地址： | 100190 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 共焦雙 拋物面天線 | ||
1.一種共焦雙拋物面天線，其特征在于，所述共焦雙拋物面天線至少包括：主反射面、副反射面以及饋源，其中：
所述主反射面和所述副反射面相對設置且共焦；其中，所述主反射面和所述副反射面均為拋物面，且所述主反射面和所述副反射面的焦點相同；
所述饋源為能夠進行二維電子掃描的有源相控陣饋源，設置在所述副反射面前端；
所述主反射面和所述副反射面的焦距比為大于1小于等于第一閾值的值，其中，所述第一閾值為大于1小于2的值；
所述天線不對平面波聚焦，并且將主反射面前端的大口徑平面波壓縮成副反射面前端的小口徑平面波；
所述小口徑平面波的焦距場與所述有源相控陣饋源的口徑場共軛匹配。
2.根據權利要求1所述的天線，其特征在于，所述饋源為所述主反射面和所述副反射面的偏饋饋源，并且所述饋源發射的電磁波能夠從所述副反射面的不同角度入射到所述副反射面。
3.根據權利要求1所述的天線，其特征在于，所述饋源為能夠進行二維電子掃描的有源相控陣饋源，包括：
所述饋源為能夠進行方位向和距離向的電子掃描的有源相控陣饋源。
4.根據權利要求1至3任一項所述的天線，其特征在于，所述主反射面的焦距與所述主反射面的直徑之比為大于0.6小于1.2的值。
5.根據權利要求1至3任一項所述的天線，其特征在于，所述天線還包括支撐桿，所述支撐桿的一端與所述主反射面相連，所述支撐桿的另一端與所述副反射面相連。
6.根據權利要求1至3任一項所述的天線，其特征在于，當所述天線進行掃描時，所述饋源的掃描角度大于所述天線的掃描角度。
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