[發(fā)明專利]掩膜板及其制備方法和OLED薄膜封裝工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810323997.2 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108441839B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 吳疆 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/04 | 分類號(hào): | C23C16/04;H01L51/52 |
| 代理公司: | 蘇州攜智匯佳專利代理事務(wù)所(普通合伙) 32278 | 代理人: | 尹麗 |
| 地址: | 215300 江蘇省蘇*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 掩膜板 及其 制備 方法 oled 薄膜 封裝 工藝 | ||
1.一種掩膜板,用于OLED薄膜封裝工藝,包括:
鏤空部,所述鏤空部包括用以在基板上形成薄膜封裝層的開(kāi)孔,形成薄膜封裝層的區(qū)域?yàn)楸∧し庋b區(qū)域;
遮蓋部,所述遮蓋部用以遮蓋所述基板的非薄膜封裝區(qū)域;
其特征在于:所述遮蓋部上設(shè)有朝向所述基板方向突伸的凸肋,當(dāng)所述掩膜板與所述基板對(duì)位時(shí),所述凸肋與所述基板相抵接,所述遮蓋部具有朝向所述開(kāi)孔的第一側(cè)壁,所述凸肋包括靠近所述開(kāi)孔設(shè)置的第一凸肋,所述第一凸肋具有朝向所述薄膜封裝區(qū)域的第二側(cè)壁,所述第一側(cè)壁與所述第二側(cè)壁共面;所述凸肋在所述基板上的正投影面積小于所述遮蓋部在所述基板上的正投影面積;所述遮蓋部具有朝向所述開(kāi)孔的第一側(cè)壁和朝向所述基板的第三側(cè)壁,所述凸肋設(shè)置在所述第三側(cè)壁上,定義所述第一側(cè)壁與所述第三側(cè)壁的公共邊的延伸方向?yàn)榈谝环较颍鐾估甙拷霰∧し庋b區(qū)域設(shè)置的第一凸肋,在所述第一方向上,所述第一凸肋的長(zhǎng)度與所述第一側(cè)壁的長(zhǎng)度相等。
2.一種掩膜板的制備方法,用于制備如權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,包括如下步驟:
S11,提供母板,利用噴墨打印設(shè)備在所述母板上噴涂光刻膠;
S21,提供光罩,將所述光罩放置于所述母板上方,所述光罩包括透光區(qū)和不透光區(qū),將所述母板劃分為顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域,所述透光區(qū)與所述顯示區(qū)域相對(duì)應(yīng),所述不透光區(qū)與所述非顯示區(qū)域相對(duì)應(yīng),對(duì)所述顯示區(qū)域的光刻膠進(jìn)行曝光、顯影處理,以在所述顯示區(qū)域形成開(kāi)孔;
S31,反應(yīng)去除所述非顯示區(qū)域的剩余光刻膠,采用干刻工藝對(duì)所述非顯示區(qū)域的表面進(jìn)行刻蝕,以在所述非顯示區(qū)域形成凸肋,得到掩膜板。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的掩膜板的制備方法,其特征在于:在所述步驟S31中,所述剩余光刻膠為與所述不透光區(qū)對(duì)應(yīng)的光刻膠。
4.一種掩膜板的制備方法,用于制備如權(quán)利要求1所述的掩膜板,其特征在于,包括如下步驟:
S12,提供母板,利用噴墨打印設(shè)備在所述母板上噴涂光刻膠;
S22,提供光罩,將所述光罩放置于所述母板上方,所述光罩包括透光區(qū)和不透光區(qū),將所述母板劃分為顯示區(qū)域與非顯示區(qū)域,所述透光區(qū)與所述顯示區(qū)域相對(duì)應(yīng),所述不透光區(qū)與所述非顯示區(qū)域相對(duì)應(yīng),對(duì)所述顯示區(qū)域的光刻膠進(jìn)行曝光、顯影處理,以在所述顯示區(qū)域形成開(kāi)孔;
S32,反應(yīng)去除所述非顯示區(qū)域的剩余光刻膠,采用光刻工藝在所述非顯示區(qū)域形成凸肋,得到掩膜板。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板的制備方法,其特征在于:在所述步驟S32中,所述剩余光刻膠為與所述不透光區(qū)對(duì)應(yīng)的光刻膠。
6.一種OLED薄膜封裝工藝,其特征在于:所述OLED薄膜封裝工藝使用的掩膜板是權(quán)利要求1所述的掩膜板。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司,未經(jīng)昆山夢(mèng)顯電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810323997.2/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





