[發明專利]一種鍺基底寬光譜紅外增透光學窗口有效
| 申請號： | 201810322890.6 | 申請日： | 2018-04-11 |
| 公開（公告）號： | CN108627889B | 公開（公告）日： | 2021-01-15 |
| 發明（設計）人： | 趙中亮 | 申請（專利權）人： | 上海歐菲爾光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G02B1/115 | 分類號： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 北京盛凡智榮知識產權代理有限公司 11616 | 代理人： | 梁永昌 |
| 地址： | 200080 *** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 基底 光譜 紅外 透光 窗口 | ||
【權利要求書】：
1.一種鍺基底寬光譜紅外增透光學窗口，其結構為：在基底(2)一面沉積正面膜系(1)，在基底另一面沉積結構相同的反面膜系(3)，其特征在于：
所述的正面膜系(1)的膜系結構為：
基底/0.316H 0.360M 0.465H 0.887M 0.339L 0.136M 0.603L 0.145M/空氣；
所述的反面膜系(3)的膜系結構為：
基底/0.316H 0.360M 0.465H 0.887M 0.339L 0.136M 0.603L 0.145M/空氣；
式中，H表示一個λ0/4光學厚度的Ge膜層；M表示一個λ0/4光學厚度的ZnS膜層；L表示一個λ0/4光學厚度的YbF3膜層；λ0為中心波長；H、M和L前的數字均為膜層的厚度比例系數；
所述紅外增透光學窗口增透區域光譜范圍為7.5～14.0μm，增透區域比8～14μm的紅外大氣窗口略有加寬，平均透過率大于96％。
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