[發(fā)明專利]二氨基二膦四齒配體、其釕絡(luò)合物及上述兩者的制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810322457.2 | 申請日: | 2018-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN110357923B | 公開(公告)日: | 2022-02-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 丁奎嶺;湯易天;韓召斌 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江中科創(chuàng)越藥業(yè)有限公司 |
| 主分類號: | C07F9/50 | 分類號: | C07F9/50;C07F15/00;B01J31/24;C07C29/149;C07C33/22;C07C33/20;C07C33/46;C07C31/12;C07C31/125;C07C31/20;C07C33/26;C07C33/025;C07C33/14;C07C31 |
| 代理公司: | 上海弼興律師事務(wù)所 31283 | 代理人: | 薛琦;王衛(wèi)彬 |
| 地址: | 318000 浙江省臺州市黃*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氨基 二膦四齒配體 絡(luò)合物 上述 兩者 制備 方法 應(yīng)用 | ||
1.一種如式II所示的二氨基二膦四齒配體:
其中,
n為0、1或2;
R1、R2、R3、R4、R5、R6、R9和R10各自獨立地為H或C1~C3烷基;并且,R9和R10不同時為C1~C3烷基;
R7和R8各自獨立地為不取代的或R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基;
所述的R1-1為C1~C10烷基、C3~C10環(huán)烷基、C1~C10烷氧基、C1~C10鹵代烷基和鹵素中的一個或多個,當(dāng)為多個時,所述的R1-1相同或不同;
并且,所述的二氨基二膦四齒配體不為以下任一結(jié)構(gòu):
2.如權(quán)利要求1所述的二氨基二膦四齒配體,其特征在于:所述的n為0或1;
和/或,所述的R1為氫或甲基;
和/或,所述的R2為氫或甲基;
和/或,所述的R5為氫或甲基;
和/或,所述的R6為氫或甲基;
和/或,所述的R3為氫、甲基、乙基、正丙基或異丙基;
和/或,所述的R4為氫、甲基、乙基、正丙基或異丙基;
和/或,所述的R9為氫或甲基;
和/或,所述的R10為氫或甲基;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基時,所述的R1-1的個數(shù)為1~5個;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基時,所述的R1-1的個數(shù)為1~5個;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10烷基時,所述的C1~C10烷基為C1~C6烷基;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10烷基時,所述的C1~C10烷基為C1~C6烷基;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C3~C10環(huán)烷基時,所述的C3~C10環(huán)烷基為C3~C6環(huán)烷基;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C3~C10環(huán)烷基時,所述的C3~C10環(huán)烷基為C3~C6環(huán)烷基;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10烷氧基時,所述的C1~C10烷氧基為C1~C6烷氧基;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10烷氧基時,所述的C1~C10烷氧基為C1~C6烷氧基;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10鹵代烷基時,所述的“鹵代”為烷基上任意的氫被鹵素取代,所述的鹵素為氟、氯、溴或碘;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10鹵代烷基時,所述的“鹵代”為烷基上任意的氫被鹵素取代,所述的鹵素為氟、氯、溴或碘;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為鹵素時,所述的鹵素為氟、氯、溴或碘;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為鹵素時,所述的鹵素為氟、氯、溴或碘;
和/或,當(dāng)所述的R7為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10鹵代烷基時,所述的C1~C10鹵代烷基為C1~C4鹵代烷基;
和/或,當(dāng)所述的R8為R1-1取代的:苯基、C7~C20芳基、C5~C20雜芳基,所述的R1-1為C1~C10鹵代烷基時,所述的C1~C10鹵代烷基為C1~C4鹵代烷基;
和/或,當(dāng)所述的R7為不取代的或被R1-1取代的C7~C20芳基時,所述的C7~C20芳基為C7~C14芳基;
和/或,當(dāng)所述的R8為不取代的或被R1-1取代的C7~C20芳基時,所述的C7~C20芳基為C7~C14芳基;
和/或,當(dāng)所述的R7為不取代的或被R1-1取代的C5~C20雜芳基時,所述的C5~C20雜芳基為C5~C14雜芳基;
和/或,當(dāng)所述的R8為不取代的或被R1-1取代的C5~C20雜芳基時,所述的C5~C20雜芳基為C5~C14雜芳基。
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