[發明專利]平面內雙平臺相對位姿測量系統有效
| 申請號： | 201810320893.6 | 申請日： | 2018-04-11 |
| 公開（公告）號： | CN108680926B | 公開（公告）日： | 2022-03-25 |
| 發明（設計）人： | 段三軍;李遠橋;李波;梁嘉震 | 申請（專利權）人： | 北京特種機械研究所 |
| 主分類號： | G01S17/42 | 分類號： | G01S17/42 |
| 代理公司： | 中國兵器工業集團公司專利中心 11011 | 代理人： | 王雪芬 |
| 地址： | 100143 北*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平面 平臺 相對 測量 系統 | ||
1.一種平面內雙平臺相對位姿測量系統，其特征在于，包括：第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)、第三激光測距儀(3)和反射面(4)，測量對象為第一平臺(A)和第二平臺(B)；
其中，第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)、第三激光測距儀(3)位于第一平臺(A)上，等間距放置，第三激光測距儀(3)位于第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)之間；反射面(4)位于第二平臺(B)上；
測量時，第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)、第三激光測距儀(3)三者同時工作，且第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)、第三激光測距儀(3)的測量射線處于同一平面內，此平面即為第一平臺(A)與第二平臺(B)需要測量相對位姿的平面；
所述反射面(4)的顏色為白色，且具有一橫截面為直角三角形的凹槽，測量時，第一激光測距儀(1)與第二激光測距儀(2)分別照射在反射面(4)的凹槽的兩側，第三激光測距儀(3)照射在凹槽內部。
2.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第一平臺(A)為長方體。
3.如權利要求2所述的系統，其特征在于，所述第二平臺(B)為長方體。
4.如權利要求3所述的系統，其特征在于，所述第一平臺(A)與第二平臺(B)為尺寸相同的長方體。
5.如權利要求1所述的系統，其特征在于，所述第三激光測距儀(3)照射在凹槽的斜面。
6.如權利要求1至5中任一項所述的系統，其特征在于，所述第一平臺(A)與第二平臺(B)二者的相對距離不超過第一激光測距儀(1)、第二激光測距儀(2)、第三激光測距儀(3)所處位置的量程。
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