[發明專利]水位調節機構及掛燙機

在審

• 申請號: 201810320349.1
• 申請日: 2018-04-11
• 公開（公告）號: CN108252065A
• 公開（公告）日: 2018-07-06
• 發明（設計）人: 丁彬凡;黃一躍;呂明陽
• 申請（專利權）人: 廣東美的環境電器制造有限公司;美的集團股份有限公司
• 主分類號: D06F73/00
• 分類號: D06F73/00
• 代理公司: 北京派特恩知識產權代理有限公司 11270
• 代理人: 蔣雅潔;張穎玲

1.一種水位調節機構，其特征在于，包括：

蒸汽發生裝置，所述蒸汽發生裝置內包括加熱水腔；

水位調節箱，所述水位調節箱與所述蒸汽發生裝置之間設有相連接的進水通道和氣壓通道，所述氣壓通道高于所述進水通道；

水箱，所述水箱包括加水口；

所述水箱可拆卸地安裝于所述水位調節箱，所述水箱通過所述加水口與所述水位調節箱的內腔連通，所述水位調節箱的內腔包括高于所述加水口的第一部分及低于所述加水口的第二部分，所述第一部分與所述氣壓通道連通，所述第二部分與所述進水通道連通。

2.如權利要求1所述的水位調節機構，其特征在于，所述加水口凸伸于所述水位調節箱的內部，所述水箱還包括裝設于所述加水口內的密封組件，所述密封組件包括關閉所述加水口的第一狀態及打開所述加水口的第二狀態，當所述水箱未安裝于所述水位調節箱時，所述密封組件位于第一狀態，當所述水箱安裝于所述水位調節箱上時，所述水位調節箱的一部分與所述密封組件相抵觸并推動所述密封組件位于第二狀態。

3.如權利要求2所述的水位調節機構，其特征在于，所述水位調節箱包括用于安裝所述水箱的安裝側及與所述安裝側相對的自由側，所述水位調節箱包括從所述自由側向所述安裝側延伸的開啟件，當所述水箱安裝于所述水位調節箱上時，所述開啟件與所述密封組件相抵觸，以推動所述密封組件位于第二狀態。

4.如權利要求2所述的水位調節機構，其特征在于，所述密封組件包括固定于所述加水口內的限位部、穿設于所述限位部的密封桿、位于所述密封桿的一端的止擋部、位于所述密封桿的另一端的密封蓋以及位于所述限位部與所述止擋部之間的彈性件，所述彈性件的兩端分別抵靠于所述限位部和所述止擋部之間。

5.如權利要求2至4中任一項所述的水位調節機構，其特征在于，所述水箱包括水箱本體及可拆卸地安裝于所述水箱本體上的水箱蓋，所述加水口形成于所述水箱蓋上。

6.如權利要求2至4中任一項所述的水位調節機構，其特征在于，所述水位調節箱包括頂壁、底壁及連接于所述頂壁和所述底壁之間的側壁，所述頂壁上設有與所述加水口尺寸相匹配的連通口，所述開啟件從所述底壁向所述頂壁延伸，所述開啟件的一部分位于所述連通口內。

7.如權利要求1所述的水位調節機構，其特征在于，所述水位調節箱包括第一進氣管，所述蒸汽發生裝置包括第二進氣管，所述第一進氣管與所述第二進氣管連接形成所述氣壓通道，所述第一進氣管和所述第二進氣管相互接觸的圓周表面之間設有密封圈。

8.如權利要求7所述的水位調節機構，其特征在于，所述第一進氣管和所述第二進氣管相互接觸的圓周表面之間還設有凹槽，所述凹槽位于靠近所述水位調節箱的一端與所述密封圈之間。

9.如權利要求8所述的水位調節機構，其特征在于，所述凹槽有多個，所述凹槽呈圓環狀，多個所述凹槽沿所述氣壓通道的徑向分布于所述氣壓通道靠近所述水位調節箱的一端與所述密封圈之間，且多個所述凹槽的尺寸從所述氣壓通道靠近所述蒸汽發生裝置的一端向所述密封圈所在的位置逐漸增加。

10.如權利要求7至9中任一項所述的水位調節機構，其特征在于，所述第二進氣管的尺寸小于所述第一進氣管的尺寸，所述第一進氣管環設于所述第二進氣管的外圓周表面形成所述氣壓通道。

11.如權利要求7至9中任一項所述的水位調節機構，其特征在于，所述氣壓通道的一端設置有止口結構。

12.一種掛燙機，包括權利要求1-11中任一項所述的水位調節機構。