[發明專利]制造顯示裝置的方法

有效

• 申請號: 201810320052.5
• 申請日: 2018-04-11
• 公開（公告）號: CN109256478B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: 尹元珉;金鍾祐;李承宰;朱寧澈;河載興;李炳德;趙尹衡
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: H10K50/844
• 分類號: H10K50/844
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 程月;張逍遙

1.一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括：

準備有機發光器件；以及

形成封裝構件以封裝所述有機發光器件，

其中，形成所述封裝構件的步驟包括：通過在所述有機發光器件上提供原料氣體來在所述有機發光器件上形成第一無機封裝層；通過在所述第一無機封裝層上施用有機材料來形成第一有機封裝層；以及在所述第一有機封裝層上形成第二無機封裝層，其中，所述原料氣體包括一氧化二氮氣體、氮氣、氨氣和氫氣，以及其中，所述一氧化二氮氣體和所述氮氣的流量的總和與所述氨氣和所述氫氣的流量的總和的比等于或小于1.1，

其中，在形成所述第一無機封裝層期間產生紫外光，并且所述紫外光的照射量等于或小于1000mJ/cm²。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，通過等離子體增強化學氣相沉積工藝或等離子體增強原子層沉積工藝來執行形成所述第一無機封裝層的步驟。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述一氧化二氮氣體和所述氮氣的所述流量的所述總和與所述氨氣和所述氫氣的所述流量的所述總和的所述比等于或大于0.5。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，所述第一無機封裝層包括氧化硅、氮化硅和氮氧化硅中的至少一種。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述原料氣體還包括硅烷氣體。

6.根據權利要求1所述的方法，所述方法還包括：

在形成所述第二無機封裝層之后，通過在所述第二無機封裝層上施用有機材料來形成第二有機封裝層；以及

在所述第二有機封裝層上形成第三無機封裝層，形成所述第三無機封裝層的步驟包括：在所述第二有機封裝層上提供所述原料氣體。

7.一種制造顯示裝置的方法，所述方法包括：

準備有機發光器件；以及

通過在所述有機發光器件上沉積無機材料來形成無機層，

其中，形成所述無機層的步驟包括通過使用等離子體在所述有機發光器件上沉積原料氣體，其中，所述原料氣體包括硅烷氣體、一氧化二氮氣體、氮氣、氨氣和氫氣，以及其中，所述一氧化二氮氣體和所述氮氣的流量的總和與所述氨氣和所述氫氣的流量的總和的比等于或小于1.1，

其中，在形成所述無機層期間產生紫外光，并且所述紫外光的照射量等于或小于1000mJ/cm²。

8.根據權利要求7所述的方法，所述方法還包括：

通過在所述無機層上施用有機材料來形成有機層；以及

通過在所述有機層上沉積無機材料來形成上無機層。