[發(fā)明專利]離子注入工藝腔體的研磨工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810319515.6 | 申請(qǐng)日： | 2018-04-11 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN108550515B | 公開（公告）日： | 2019-11-08 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 瞿一濤 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 江陰市光科光電精密設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/32 | 分類號(hào)： | H01J37/32;B23H5/08 |
| 代理公司： | 江陰義海知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32247 | 代理人： | 王威欽 |
| 地址： | 214400 江*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 腔體 離子注入工藝 清洗 電解研磨 研磨 次高壓 質(zhì)量百分比 表面波紋 工藝步驟 腔體密封 一次高壓 蒸汽清洗 中和處理 粗糙度 電解液 放氣量 混合液 氫氟酸 磷酸 常壓 硫酸 保證 | ||
1.離子注入工藝腔體的研磨工藝，其特征在于，包括如下依次工藝步驟：對(duì)腔體密封面的電解研磨、常壓清洗、一次高壓清洗、中和處理、二次高壓清洗、蒸汽清洗、三次高壓清洗、干燥；電解研磨工序中采用的電解液由質(zhì)量百分比為60~70%的磷酸、20~30%的硫酸及3~10%的氫氟酸構(gòu)成的混合液，電解溫度為50℃±5℃，電解時(shí)間為10分~50分。
2.如權(quán)利要求1所述的離子注入工藝腔體的研磨工藝，其特征在于，在所述電解研磨工序中，電解裝置的直流電源是由可控硅整流器提供的，直流電源電壓為15V，電流為35000A，對(duì)電解液加熱的裝置為2噸燃?xì)忮仩t。
3.如權(quán)利要求2所述的離子注入工藝腔體的研磨工藝，其特征在于，在所述常壓清洗工序中，采用自來水噴灑的方式對(duì)電解研磨后的腔體清洗；在所述一次高壓清洗工序中，采用150Bar的自來水對(duì)腔體再次清洗；在所述中和處理中，采用質(zhì)量分?jǐn)?shù)為20%的碳酸氫鈉對(duì)腔體進(jìn)行中和處理；在所述二次高壓清洗工序中，采用高壓自來水對(duì)中和處理后的腔體清洗；在所述蒸汽清洗工序中，蒸汽為10Bar的水蒸氣；在所述三次高壓清洗工序中，采用的清洗介質(zhì)為純水，在所述干燥工序中，干燥溫度為100℃~150℃。
4.如權(quán)利要求3所述的離子注入工藝腔體的研磨工藝，其特征在于，在所述電解研磨工序之前還包括對(duì)腔體的粗拋機(jī)加工；在所述干燥工序后還設(shè)有對(duì)腔體的精細(xì)研磨工序。
5.如權(quán)利要求4所述的離子注入工藝腔體的研磨工藝，其特征在于，在所述精細(xì)研磨工序中，精細(xì)研磨的方向平行于腔體橫向，通過強(qiáng)光手電觀察腔體表面紋理。
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