[發明專利]一種用靜電法制備納米流體的裝置

有效

• 申請號: 201810319443.5
• 申請日: 2018-03-31
• 公開（公告）號: CN110314627B
• 公開（公告）日: 2021-07-30
• 發明（設計）人: 胡開鑫
• 申請（專利權）人: 寧波大學
• 主分類號: B01J19/08
• 分類號: B01J19/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

一種用靜電法制備納米流體的裝置，屬納米流體制備領域，使納米流體制備工藝簡易，納米流體穩定性強。其特征在于：用靜電法制備納米流體的裝置，包括密封箱中的基液流通裝置和納米顆粒流通裝置，基液流通裝置中的扁管開口槽背后設有高壓正電極板，納米顆粒流通裝置中的納米顆粒漂落軌道槽底部設有高壓負電極板和高壓陰極尖端放電暈針，二個槽豎直放置，開口重合，二個電極板間產生電場，納米顆粒在惰性氣體中漂落，途徑高壓陰極尖端放電暈針放電帶電，納米顆粒團帶電后排斥成最小單元，帶電納米顆粒在電場中產生平移，與流落的基液溶合成納米流體，另設有可內置納米流體制備裝置的真空箱，用于制備裝置的抽真空和注入1標準大氣壓的惰性氣體。

技術領域

本發明屬于納米流體制備技術領域，特別涉及靜電法制備納米流體的裝置。

背景技術

在基液中均勻加入納米顆粒所形成的納米流體具有良好的熱傳遞性能，正逐步應用于核能冷卻、太陽能利用、電子儀器散熱、航天器熱控制等領域，將來還有更廣泛的應用前景。目前國內外納米流體的制備方法并不多，常見的有氣相合成納米流體的單步法和納米顆粒與基液直接混合并通過機械、超聲波振蕩合成納米流體的二步法等技術，這些方法都不同程度地存在著制備環境要求過高、操作復雜，所制備的納米流體納米顆粒易團聚等問題，實際應用困難較大，所制備的納米流體工效不甚理想。

因此，非常有必要開發一種在普通環境下能規?；苽浼{米流體的裝置，使制備工藝簡易，又使納米顆粒能均勻分布于基液中，提高納米流體的熱傳導性能。

發明內容

本發明的目的在于針對國內外納米流體制備技術的局限性，提供一種用靜電法制備納米流體的裝置，使納米流體在制備時對工作環境要求低，操作簡易，納米顆粒帶上同一電荷后能均勻分布于基液中，所制備的納米流體熱傳導效率達最佳狀態。為實際規?；苽浼{米流體、促進納米流體的廣泛研究和工程應用提供制備新技術。

本發明采用如下方案實現發明目的：

一種用靜電法制備納米流體的裝置，包括密封箱1，工作平臺2，所述密封箱1內附設有基液流通裝置3和納米顆粒流通裝置4，所述密封箱1內附設有豎直指示重力錘7和電子配電箱8，所述密封箱1頂部附設有密封箱內外氣體流通開關塞11，所述密封箱1底部有二只調節密封箱豎直狀態的調節鑼桿12，所述密封箱1、基液流通裝置3和納米顆粒流通裝置4內部空間，在工作狀態時充有一個大氣壓的氬、氮等惰性氣體，本發明附設有可整體內置用靜電法制備納米流體的裝置的真空箱17。

所述基液流通裝置3，包括基液儲存箱3-1，所述基液儲存箱3-1上端表面設置有箱體內外氣體流通口3-2和箱體中央頂端基液灌入口的密封和基液流量調控塞9。

所述基液流通裝置3，包括基液流通扁管3-3，所述基液流通扁管3-3包括基液流入口3-3-1，扁管開口槽3-3-2和基液流落出口3-3-3、基液流落入口3-3-4，所述扁管開口槽3-3-2背后附設有高壓正電極板5，所述基液流通扁管3-3由導電性能弱電場穿透性強的塑料制成。

所述基液流通裝置3，包括基液積儲箱3-4。

所述納米顆粒流通裝置4，包括納米顆粒儲存瓶4-1、納米顆粒漂落槽4-2、納米顆粒積儲瓶4-3，在納米顆粒儲存瓶4-1上端瓶頸口納米顆粒灌入口設置密封和納米顆粒流量調控塞10。

所述納米顆粒漂落槽4-2，包括納米顆粒溢出口4-2-1、納米顆粒漂落內部軌道槽4-2-2、剩余納米顆粒接入口4-2-3，所述納米顆粒漂落內部軌道槽4-2-2底部附設有靜電放電裝置6，所述納米顆粒漂落槽4-2由陶瓷制成。

所述靜電放電裝置6，包括高壓陰極尖端放電暈針6-1、高壓負電極板6-2。

所述基液流通裝置3中的扁管開口槽3-3-2的開口與所述納米顆粒流通裝置4中的納米顆粒漂落內部軌道槽4-2-2的開口重合，所述扁管開口槽3-3-2和納米顆粒漂落內部軌道槽4-2-2都豎直放置。