[發明專利]一種聯硼化合物表面修飾鈣鈦礦薄膜的方法及其應用有效
| 申請號: | 201810318811.4 | 申請日: | 2018-04-11 |
| 公開(公告)號: | CN108461635B | 公開(公告)日: | 2019-09-13 |
| 發明(設計)人: | 朱瑞;涂用廣;楊曉宇;龔旗煌 | 申請(專利權)人: | 北京大學 |
| 主分類號: | H01L51/42 | 分類號: | H01L51/42;H01L51/48 |
| 代理公司: | 北京萬象新悅知識產權代理有限公司 11360 | 代理人: | 李稚婷 |
| 地址: | 100871*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 鈣鈦礦薄膜 硼化合物 太陽能電池器件 表面修飾 鈣鈦礦 光電轉換效率 生產周期 缺陷態密度 光電性能 碘離子 硼元素 吸光層 有效地 鈍化 配位 修飾 制備 應用 引入 | ||
1.一種對鈣鈦礦薄膜進行表面修飾的方法,將含有B-B鍵的聯硼化合物溶液負載在鈣鈦礦薄膜表面,然后于50-100℃退火處理,得到聯硼化合物修飾的鈣鈦礦薄膜,其中所述聯硼化合物的化學通式為B2(XY)4,其中X是N、O或Si,Y代表Hp或CmHn,m、n、p為正整數。
2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述聯硼化合物選自下列含有B-B鍵的化合物中的一種或多種:C12H24B2O4、C10H20B2O4、C12H8B2O4、B2(OH)4和C8H24B2N4。
3.如權利要求1所述的方法,其特征在于,將聯硼化合物溶解于有機溶劑中配制成聯硼化合物溶液,在無氧氣氛下,將聯硼化合物溶液涂敷到鈣鈦礦薄膜表面,然后于50~100℃退火處理。
4.如權利要求3所述的方法,其特征在于,所述聯硼化合物溶液的濃度為0.5~20mg/mL;退火處理時間為5~30min。
5.一種鈣鈦礦太陽能電池,包括透明襯底,以及在該襯底上依次層疊的透明電極、電子傳輸層、鈣鈦礦吸光層、空穴傳輸層和頂電極,其特征在于,所述鈣鈦礦吸光層與空穴傳輸層接觸的界面被聯硼化合物修飾,所述聯硼化合物的化學通式為B2(XY)4,其中X是N、O或Si,Y代表Hp或CmHn,m、n、p為正整數。
6.如權利要求5所述的鈣鈦礦太陽能電池,其特征在于,所述聯硼化合物選自下列含有B-B鍵的化合物中的一種或多種:C12H24B2O4、C10H20B2O4、C12H8B2O4、B2(OH)4和C8H24B2N4。
7.權利要求5或6所述鈣鈦礦太陽能電池的制備方法,包括以下步驟:
1)提供透明襯底及透明電極;
2)在透明電極上制備電子傳輸層;
3)在電子傳輸層上制備鈣鈦礦吸光層,并對鈣鈦礦吸光層表面進行聯硼化合物修飾;
4)在聯硼化合物修飾過的鈣鈦礦吸光層上制備空穴傳輸層;
5)在空穴傳輸層上制備頂電極。
8.如權利要求7所述的制備方法,其特征在于,步驟3)對鈣鈦礦吸光層進行聯硼化合物界面修飾的方法為:在無氧氣氛下,將含有B-B鍵的聯硼化合物溶液負載在鈣鈦礦吸光層表面;轉移至加熱臺50~100℃退火處理,得到聯硼化合物修飾的鈣鈦礦吸光層。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京大學,未經北京大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810318811.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種雙色有機光電探測器
- 下一篇:一種陰極界面修飾鈣鈦礦太陽能電池的制備方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇





