[發明專利]一種具有紅外光學特性的含雙金屬配位的聚合物涂層、制備方法及其應用有效
| 申請號: | 201810315960.5 | 申請日: | 2018-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN108424679B | 公開(公告)日: | 2020-04-07 |
| 發明(設計)人: | 王錦艷;蹇錫高;韓建華;劉程;張守海;翁志煥;胡方圓;柳承德;宗立率 | 申請(專利權)人: | 大連理工大學 |
| 主分類號: | C09D5/30 | 分類號: | C09D5/30;C09D5/32;C09D187/00;C09D7/65;C08G83/00 |
| 代理公司: | 大連理工大學專利中心 21200 | 代理人: | 溫福雪;侯明遠 |
| 地址: | 116024 遼*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 具有 紅外 光學 特性 雙金屬 聚合物 涂層 制備 方法 及其 應用 | ||
1.一種具有紅外光學特性的含雙金屬配位的聚合物的制備方法,其特征在于,所述含雙金屬配位的聚合物結構如下:
其中,M為包括元素周期表中IB、IIB族、VIII族、鑭系和錒系的金屬元素,Ar為雜環芳基,R為碳數為4到18的直鏈烷烴側鏈;其中聚合物中包含x鏈段和y鏈段,x+y小于或等于1,并且x的范圍為0~0.8;
所述的制備方法,步驟如下:
(1)合成帶有偶酰基團的齊聚物PTB:將單體1、單體2和雙三苯基磷二氯化鈀催化劑按照摩爾比1:2:0.5加入到DMF溶劑中,保持溶液體系中固體的質量分數為20wt%;在氮氣氛圍下,110℃反應12h,分離提純,得到帶有偶酰基團的齊聚物PTB;反應式如下:
其中,R為直鏈烷烴側鏈;
(2)對帶有偶酰基團的齊聚物PTB進行硫化和配位反應改性合成含硫代雙烯鏈段的預聚體Ni-PTB:將帶有偶酰基團的齊聚物PTB和十硫化四磷按照1:1的摩爾比加入到有機溶劑DMI中,保持溶液體系中固體的質量分數為20wt%,在90℃下攪拌6~10h;隨后按六水合氯化鎳與十硫化四磷的摩爾比1:0.5加入六水合氯化鎳;在氮氣氛圍下,110℃攪拌反應1~3h后,分離提純,得到預聚體Ni-PTB;反應式如下:
(3)將預聚物Ni-PTB中的殘余偶酰基團通過發生希夫堿反應和金屬配位反應,最終形成含硫代雙烯和希夫堿結構雙金屬配位涂層NiM-PTBN:將預聚物Ni-PTB、四胺單體、金屬鹽類按照摩爾比1:1:0.5加入到含有乙酸和DMAc的混合溶劑中保持溶液體系中固體質量分數為20wt%,乙酸和DMAc的體積比1:10;室溫超聲后,將溶液平鋪在基板上,加熱揮發,形成雙金屬配位的聚合物涂層NiM-PTBN;反應式如下:
2.根據權利要求1所述的制備方法,其特征在于,所述的金屬鹽類為元素周期表中I B、II B族、VIII族在內的金屬元素鹽、鑭系金屬鹽和錒系金屬鹽中的一種或多種。
3.根據權利要求1或2所述的制備方法,其特征在于,所述的四胺單體為1,2,4,5-四氨基苯或3,3',4,4'-聯苯四胺。
4.權利要求1-3任一所述制備方法得到的雙金屬配位聚合物NiM-PTBN用作紅外隱身涂料中的填料或基體。
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