[發(fā)明專利]基于熒光材料的無損檢測系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201810307587.9
• 申請日: 2018-04-08
• 公開（公告）號: CN108548803A
• 公開（公告）日: 2018-09-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 薛笑杰
• 申請（專利權(quán)）人: 薛笑杰
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G01N21/95
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明提供一種基于熒光材料的無損檢測系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:熒光激發(fā)裝置，所述熒光激發(fā)裝置用于發(fā)射激發(fā)熒光材料的激發(fā)光，其中所述激發(fā)光為非平行激發(fā)光；信號采集處理裝置,所述信號采集處理裝置用于獲取熒光信號；數(shù)據(jù)處理裝置,所述數(shù)據(jù)處理裝置用于將待測產(chǎn)品表面的熒光信號轉(zhuǎn)化為待測產(chǎn)品表面的位置信息；輸出裝置，所述輸出裝置可輸出所述待測產(chǎn)品表面的位置信息。本發(fā)明的無損檢測系統(tǒng)可通過熒光材料激發(fā)獲得對應(yīng)的熒光信號從而獲得被測材料的表面損傷情況。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明屬于產(chǎn)品無損檢測領(lǐng)域，具體涉及一種基于熒光材料的無損檢測系統(tǒng)。

背景技術(shù)

無損探傷檢測技術(shù)已廣泛的應(yīng)用在產(chǎn)品檢測、后期維護等眾多工業(yè)領(lǐng)域。傳統(tǒng)的無損檢測方法有超聲波法、滲透法、磁粉檢測法。目前現(xiàn)有的測試方法和裝置均不能對表面進行定量的檢測，只可以進行定性的檢測。而且這些方法都有一定的局限性。比如磁粉檢測法要求對待檢測材料通電后有一定的磁性。超聲波檢測法和滲透法可廣泛的檢測固體材料，包括金屬、非金屬、無磁性以及鐵磁性材料。但是使用這幾種方法及其檢測裝置均不能對表面有效的三維定量測量。如果可以進行表面上定量檢測，將有助于分析出表面具體損傷情況，譬如，分析處表面裂痕與表面劃痕的區(qū)別。這將有助于提高產(chǎn)品檢測的靈敏度，降低廢品率。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種新的無損檢測系統(tǒng)，本發(fā)明的無損檢測系統(tǒng)可通過熒光材料激發(fā)獲得對應(yīng)的熒光信號從而獲得被測材料的表面損傷情況，具體的本發(fā)明提供一種如下的基于熒光材料的無損檢測系統(tǒng)：

基于熒光材料的無損檢測系統(tǒng),所述系統(tǒng)包括:

熒光激發(fā)裝置，所述熒光激發(fā)裝置用于發(fā)射激發(fā)熒光材料的激發(fā)光，其中所述激發(fā)光為非平行激發(fā)光；

信號采集處理裝置,所述信號采集處理裝置用于獲取熒光信號；

數(shù)據(jù)處理裝置,所述數(shù)據(jù)處理裝置用于將待測產(chǎn)品表面的熒光信號轉(zhuǎn)化為待測產(chǎn)品表面的位置信息；

輸出裝置，所述輸出裝置可輸出所述待測產(chǎn)品表面的位置信息。

進一步，所述激發(fā)光為激光。

進一步,所述熒光激發(fā)裝置包括探頭，所述非平行激發(fā)光通過所述探頭對準(zhǔn)測試點進行激發(fā)。

進一步，所述探頭中設(shè)置有透鏡,熒光激發(fā)裝置的激發(fā)器發(fā)出光線通過所述透鏡獲得非平行激發(fā)光。

進一步，所述熒光信號為熒光壽命或不同波長的發(fā)光峰峰面積比。

進一步，所述數(shù)據(jù)處理裝置包括數(shù)據(jù)擬合模塊；所述數(shù)據(jù)擬合模塊可通過已知距離位置測試點與非平行激發(fā)光不同相對距離下激發(fā)的熒光信號進行擬合處理，獲得待測產(chǎn)品表面的熒光信號與待測產(chǎn)品表面位置信息之間的關(guān)聯(lián)關(guān)系。

進一步，所述探頭可來回移動。

進一步，所述數(shù)據(jù)擬合模塊以以下函數(shù)的方式通過已知距離位置測試點與非平行激發(fā)光不同相對距離下激發(fā)的熒光信號進行擬合：y＝k₀+k₁x+k₂x²…+k_ixⁱ；其中y為相對距離，x為熒光信號。

進一步，所述無損檢測系統(tǒng)包括樣品放置平臺，所述樣品放置平臺可在平臺所在平面調(diào)節(jié)移動改變待測品的測試點。

進一步，所述無損檢測系統(tǒng)包括X軸滑臺、Y軸滑臺、Z軸滑臺和坐標(biāo)處理模塊，所述探頭可通過Z軸滑臺來回移動改變與待測點的相對距離，所述樣品放置平臺可通過X軸滑臺和Y軸滑臺在平臺所在平面移動，通過所述坐標(biāo)處理模塊可控制探頭和產(chǎn)品放置平臺在X軸滑臺、Y軸滑臺和Z軸滑臺的移動位置。