[發(fā)明專利]一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810303438.5 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-07 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108608311B | 公開(公告)日: | 2021-11-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白林森;梁蓮芝 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 江蘇克勞波爾科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | B24B31/12 | 分類號(hào): | B24B31/12;B08B3/04 |
| 代理公司: | 北京華仁聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11588 | 代理人: | 陶長清 |
| 地址: | 224731 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 高效率 研磨 顆粒 清洗 分離 工藝 | ||
1.一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于包括如下步驟:
一、安裝清洗筒,并確定清洗筒位置:將多個(gè)清洗筒(2)分別安置于清洗大槽(1)的清洗大槽底部(24)上,并將清洗筒(2)的底部與中空軸(15)通過螺紋固定旋轉(zhuǎn)連接,使清洗大槽(1)槽壁上的錐形插件(12)位于清洗筒(2)上的盲孔(13)和通孔(14)的中軸線上,以使錐形插件(12)和盲孔(13)與通孔(14)之間的中軸線重合,其中軸線和中空軸(15)與盲孔(13)或通孔(14)連線的夾角為α°,并使用塞子(21)密封中空軸(15)頂部;
二、密封清洗筒,并添加研磨顆粒和清洗液:通過PLC電控制中空軸(15)向左逆時(shí)針旋轉(zhuǎn)α°,使得清洗大槽(1)的主軸(4)-伸縮連接桿(3)-第二固定插槽(19)-通孔(14)-錐形插件(12)位于同一直線上,即該直線與清洗大槽(1)的半徑重合,并通過伸縮部(20)推動(dòng)清洗筒(2)向前移動(dòng),即清洗筒(2)的中空軸由B點(diǎn)移動(dòng)至A點(diǎn),最終使得清洗筒上的一列通孔(14)和清洗大槽(1)上的一列錐形插件(12)接觸、密合、封閉,即實(shí)現(xiàn)清洗筒的固定,然后向清洗筒(2)中添加研磨顆粒(22)和清洗液;
三、清洗研磨顆粒:調(diào)節(jié)主軸(4)、動(dòng)力機(jī)構(gòu),并帶動(dòng)攪拌機(jī)構(gòu)對(duì)每個(gè)清洗筒逐一攪拌,攪拌時(shí)間1~5min,攪拌完畢后,旋轉(zhuǎn)主軸(4)對(duì)研磨顆粒(22)進(jìn)行順時(shí)針或逆時(shí)針或順逆交替離心清洗,清洗時(shí)間2~20min,停止;
四、排除清洗液:使用伸縮連接桿(3)上的伸縮部(20)拉動(dòng)清洗筒向后移動(dòng),即清洗筒(2)的中空軸(15)由A點(diǎn)移動(dòng)至B點(diǎn),清洗筒上的一列通孔(14)和清洗大槽(1)上的一列錐形插件(12)相互分離,中空軸順時(shí)針旋轉(zhuǎn)2α°,使得清洗大槽(1)的主軸-伸縮連接桿(3)-第一固定插槽(18)-盲孔(13)-錐形插件(12)位于同一直線上,即該直線與清洗大槽(1)的半徑重合,并通過伸縮部(20)推動(dòng)清洗筒向前移動(dòng),即清洗筒(2)的中空軸由B點(diǎn)移動(dòng)至A點(diǎn),最終使得清洗筒上的一列盲孔(13)和清洗大槽(1)上的一列錐形插件(12)接觸、密合、封閉,再次實(shí)現(xiàn)清洗筒的固定,旋轉(zhuǎn)主軸(4),通過離心力將清洗筒中的清洗液排出通孔(14)外,由于通孔(14)上設(shè)置有過濾網(wǎng)篩(23),使得研磨顆粒(22)留在清洗筒(2)內(nèi),并通過重力作用在清洗筒底部聚集;
五、收集研磨顆粒,循環(huán)清洗液:拔開中空軸(15)上的塞子(21),研磨顆粒順著中空軸(15)管道至研磨顆粒收集機(jī)構(gòu)-烘干,完成清洗;而通過通孔(14)流出的清洗液,經(jīng)過缺口(25)排向排水機(jī)構(gòu),并通過循環(huán)機(jī)構(gòu)與供液機(jī)構(gòu)相連接,進(jìn)行下一次的清洗工藝;
六、對(duì)下一批研磨顆粒進(jìn)行清洗處理。
2.如權(quán)利要求1所述的一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于所述清洗大槽(1)的槽壁上設(shè)置有固定板(11),固定板(11)上設(shè)置有與盲孔(13)或通孔(14)相匹配的若干錐形插件(12)。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于所述缺口(25)在長度方向上不大于中空軸(15)直徑的兩倍。
4.如權(quán)利要求1所述的一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于所述α值為7°~10°。
5.如權(quán)利要求1所述的一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于所述動(dòng)力機(jī)構(gòu)包括有橫桿(6)、主架(7)、第二電機(jī)(9)、第三電機(jī)(10)、主架(7)上滑設(shè)橫桿(6),橫桿(6)在第三電機(jī)(10)的帶動(dòng)下沿主架(7)上下滑動(dòng),且橫桿(6)在第二電機(jī)(9)的帶動(dòng)下在主架(7)上左右滑動(dòng),橫桿(6)的末端連接攪拌機(jī)構(gòu),所述攪拌機(jī)構(gòu)包括第一電機(jī)(8)、攪拌桿(5)和攪拌葉片,攪拌葉片通過第一電機(jī)(8)提供旋轉(zhuǎn)動(dòng)力。
6.權(quán)利要求1所述的一種高效率研磨顆粒的清洗分離工藝,其特征在于為了提高清洗筒(2)的清洗效率和清洗筒(2)在旋轉(zhuǎn)過程的力學(xué)平衡,在第一攪拌擋件(16)的沿清洗筒(2)直徑方向?qū)α⒃O(shè)置與第一攪拌擋件(16)完全一致的第二攪拌擋件(17)。
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