[發(fā)明專利]刻蝕設(shè)備及自動控制刻蝕終點的刻蝕方法

有效

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• 申請日: 2018-04-04
• 公開（公告）號: CN108517521B
• 公開（公告）日: 2020-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 韋顯旺
• 申請（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44304
• 代理人: 孫偉峰;陽志全

1.一種刻蝕設(shè)備，其特征在于，包括用于盛裝刻蝕液的刻蝕槽(10)和用于對浸沒在所述刻蝕液中的金屬層(2)施加電壓的加壓裝置(20)，所述加壓裝置(20)用于同時接觸所述金屬層(2)的兩不同部位以形成加壓回路；所述加壓裝置(20)包括兩組電極組件，每組電極組件包括相對設(shè)置的電磁鐵機(jī)構(gòu)(23)與夾緊簧片(24)以及電連接于所述電磁鐵機(jī)構(gòu)(23)內(nèi)表面的電極探針(23a)，所述夾緊簧片(24)在所述電磁鐵機(jī)構(gòu)(23)的吸引下產(chǎn)生形變而靠近所述電極探針(23a)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述加壓裝置(20)還包括電源(21)和分別自所述電源(21)的每極引出的兩根相對的電極懸臂(22)，每組所述電極探針(23a)與所述夾緊簧片(24)分別固定在兩根相對的所述電極懸臂(22)內(nèi)表面。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述電極懸臂(22)為彈性懸臂，在所述電磁鐵機(jī)構(gòu)(23)不工作時，相對設(shè)置的所述電極懸臂(22)朝向相互背離的方向翹起。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述夾緊簧片(24)包括連接所述電極懸臂(22)的鐵片和連接在所述鐵片端部的惰性金屬。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括第一噴淋裝置(30)和第二噴淋裝置(30’)，所述第一噴淋裝置(30)和第二噴淋裝置(30’)分別設(shè)于所述刻蝕槽(10)的底部和上方，分別用于朝所述金屬層(2)的上表面和所述金屬層(2)下的基板(1)下表面噴淋刻蝕液。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5任一所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，還包括設(shè)于所述刻蝕槽(10)內(nèi)的第一傳送裝置(40)和第二傳送裝置(50)，所述第一傳送裝置(40)用于沿所述刻蝕槽(10)的長度方向搬運所述基板(1)，所述第二傳送裝置(50)用于沿著或背向所述基板(1)的搬運方向傳輸所述加壓裝置(20)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述第一傳送裝置(40)為傳送輥。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述第二傳送裝置(50)為傳送履帶，所述加壓裝置(20)固定在所述傳送履帶上。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的刻蝕設(shè)備，其特征在于，所述第二傳送裝置(50)為兩個，分別固定在所述刻蝕槽(10)的兩側(cè)。

10.一種自動控制刻蝕終點的刻蝕方法，其特征在于，使用權(quán)利要求1-9任一所述的刻蝕設(shè)備，包括：

將基板(1)放入刻蝕槽(10)內(nèi)，使所述基板(1)表面的金屬層(2)浸沒在刻蝕液中；

加壓裝置(20)通電，兩組電極探針(23a)與夾緊簧片(24)分別接觸并夾緊所述金屬層(2)和所述基板(1)；

當(dāng)電流減小至小于預(yù)設(shè)值時，所述夾緊簧片(24)恢復(fù)形變而與所述電磁鐵機(jī)構(gòu)(23)分開。