[發明專利]一種埃米防藍光鏡片及其制備方法

在審

• 申請號: 201810297701.4
• 申請日: 2018-03-30
• 公開（公告）號: CN108303760A
• 公開（公告）日: 2018-07-20
• 發明（設計）人: 楊敏男
• 申請（專利權）人: 廈門美瀾光電科技有限公司
• 主分類號: G02B5/20
• 分類號: G02B5/20;G02B1/14;G02B1/115;C23C14/28
• 代理公司: 廈門市精誠新創知識產權代理有限公司 35218
• 代理人: 劉小勤

1.一種埃米防藍光鏡片，其特征在于：包括基底、打底層、復合薄膜層和保護層，所述打底層為二氧化硅或硅鋁混合物，厚度為800±100埃米，所述復合薄膜層包括4層、6層或者8層高折射率層和低折射率層交替堆疊而成薄膜，所述高折射率層為Ta₂O₅、Ti₃O₅或Nb₂O₅中的任意一種，厚度為500±100埃米，所述低折射率層為二氧化硅或硅鋁混合物，與所述保護層相鄰的所述低折射率層的厚度為1000-1600埃米，與所述保護層不相鄰的所述低折射率層的厚度為800±100埃米。

2.根據權利要求1所述的埃米防藍光鏡片，其特征在于：所述基底為玻璃、亞克力基片、聚碳酸酯基片、尼龍基片、CR-39基片的任意一種。

3.根據權利要求1所述的埃米防藍光鏡片，其特征在于：所述硅鋁混合物為真空鍍膜材料L5。

4.根據權利要求1所述的埃米防藍光鏡片，其特征在于：所述復合薄膜層成膜時使用離子源設備輔助成膜。

5.根據權利要求1所述的埃米防藍光鏡片，其特征在于：所述低折射率層的折射率為1.4-1.5。

6.根據權利要求1所述的埃米防藍光鏡片，其特征在于：所述保護層為防水薄膜，厚度為50-200埃米。

7.一種制備權利要求1-6中任一項所述的埃米防藍光鏡片的方法，其特征在于：包括以下步驟：

(1)基底清潔后烘烤，放入冶具，送入真空室；

(2)利用真空鍍膜技術在步驟(1)得到的基底上鍍打底層，打底層材料為二氧化硅或硅鋁混合物，膜層監控厚度800±100埃米；

(3)利用真空鍍膜技術，在離子源設備輔助成膜條件下，在步驟(1)得到的打底層上依次交替堆疊高折射率層和低折射率層，所述的高折射率層材料為Ta₂O₅、Ti₃O₅或Nb₂O₅中的任意一種，膜層監控厚度500±100埃米，所述的低折射率層材料為二氧化硅或硅鋁混合物，最后一層所述低折射率層的膜層監控厚度1000-1600埃米，其余所述低折射率層的膜層監控厚度800±100埃米；

(4)在步驟(3)所得的最后一層所述低折射率層上鍍上保護層。

8.根據權利要求7所述的制備埃米防藍光鏡片的方法，其特征在于：所述步驟(1)中烘烤為在40-80℃烘烤1-3h。

9.根據權利要求7所述的制備埃米防藍光鏡片的方法，其特征在于：所述步驟(1)中真空室的真空度≤3×10^-5Torr。

10.根據權利要求7所述的制備埃米防藍光鏡片的方法，其特征在于：所述步驟(3)中離子源設備輔助成膜，工作氣體為氬氣或者氧氣，使用電壓為120-180V，電流為4-9A。