[發(fā)明專(zhuān)利]一種光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)、制備方法和極化轉(zhuǎn)化模式的調(diào)控方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810297525.4 | 申請(qǐng)日: | 2018-04-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108459369A | 公開(kāi)(公告)日: | 2018-08-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張中月;王天堃 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 陜西師范大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G02B5/30 | 分類(lèi)號(hào): | G02B5/30;G03F7/00 |
| 代理公司: | 西安智萃知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 61221 | 代理人: | 趙雙 |
| 地址: | 710119 陜西省西安市長(zhǎng)*** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué)偏振 非對(duì)稱(chēng) 偏振器 極化 調(diào)控 橫體 平面手性 豎體 制備 轉(zhuǎn)化 貴金屬材料 傳輸器材 傳輸特性 光學(xué)器件 一體結(jié)構(gòu) 傳輸 | ||
1.一種光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu),其特征在于:由多個(gè)結(jié)構(gòu)相同的S形偏振器結(jié)構(gòu)單元按矩形周期陣列排布的平面手性結(jié)構(gòu);
所述S形偏振器結(jié)構(gòu)單元由第一橫體(1)、第二橫體(2)、第三橫體(3)、第一豎體(4)和第二豎體(5)構(gòu)成的一體結(jié)構(gòu);
所述第一橫體(1)、第二橫體(2)和第三橫體(3)由上及下平行排列;所述第一豎體(4)和第二豎體(5)互相平行,且第一豎體(4)與第一橫體(1)垂直;
所述第一豎體(4)一端與所述第一橫體(1)的一端連接,第一豎體(4)的另一端與第二橫體(2)的一端連接;第二橫體(2)的另一端與第二豎體(5)的一端連接,第二豎體(5)的另一端與第三橫體(3)的一端連接;
所述第二橫體(2)的長(zhǎng)度不小于所述第一橫體(1)和所述第三橫體(3)長(zhǎng)度;所述第一橫體(1)、第二橫體(2)、第三橫體(3)、第一豎體(4)和第二豎體(5)的寬度相等,且高度相等;
所述S形偏振器結(jié)構(gòu)單元由貴金屬材料制成。
2.權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)的制備方法,其特征在于:包括以下步驟:
步驟1,準(zhǔn)備基底:準(zhǔn)備ITO玻璃基底并清洗吹干;
步驟2,涂光刻膠:用甩膠機(jī)在步驟1準(zhǔn)備好的ITO玻璃基底上涂覆PMMA光刻膠;
步驟3,涂膠后烘干:將步驟2涂覆PMMA光刻膠的基底放在熱板上烘干;
步驟4,電子束曝光結(jié)構(gòu)圖形:用圖形發(fā)生器設(shè)計(jì)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)圖形,并用電子束曝光圖形,得到曝光后的基底;曝光時(shí),電子束對(duì)所述光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)的S形偏振器結(jié)構(gòu)單元圖形部分的PMMA光刻膠進(jìn)行刻蝕;
步驟5,顯影:常溫下,將步驟4中曝光好的基底放入顯影液中浸泡顯影;
步驟6,定影:將步驟5浸泡顯影后的基底放入定影液中浸泡定影,定影完成后將基底取出,用氮?dú)獯蹈桑?/p>
步驟7,定影后烘干:將步驟6浸泡定影后并吹干的基底放在熱板上烘干;
步驟8,鍍金:將步驟7定影后烘干的基底放入電子束真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)鍍金,蒸鍍完冷卻10min~20min后再取出;
步驟9,剝離PMMA光刻膠:采用lift-off工藝,將步驟8真空鍍金后的基底泡在丙酮中,時(shí)間至少為30min,溶解電子束PMMA光刻膠;
步驟10,吹干:用氮?dú)鈽尨蹈刹襟E9得到的剝離PMMA光刻膠后的基底,得到所述光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制備方法,其特征在于:所述步驟1具體操作為:準(zhǔn)備厚度為1.0mm,長(zhǎng)寬尺寸為20.0mm×20.0mm的ITO玻璃,并將準(zhǔn)備的ITO玻璃放入洗滌液中清洗,用去離子水超聲15min后,用丙酮超聲15min,再用酒精超聲15min,之后用去離子水超聲5min,最后用氮?dú)鈽尨蹈珊蠓湃氲獨(dú)夤裰袀溆谩?/p>
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制備方法,其特征在于:所述步驟2中光刻膠的厚度為270nm,所述甩膠機(jī)的轉(zhuǎn)速為4000rpm,時(shí)間為60 s;
所述步驟3和步驟7中烘干的溫度為150℃,時(shí)間為3min;所述步驟5中浸泡顯影的時(shí)間為60s;所述步驟6中顯影液由四甲基二戊酮與異丙醇以體積比為3:1配合制成,浸泡定影的時(shí)間為20s;所述步驟8中真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)的真空度不大于3×10-6torr。
5.一種極化轉(zhuǎn)化模式的調(diào)控方法,其特征在于:通過(guò)調(diào)節(jié)權(quán)利要求1所述的光學(xué)偏振器結(jié)構(gòu)中S形偏振器結(jié)構(gòu)單元的結(jié)構(gòu)參數(shù),來(lái)改變S形偏振器結(jié)構(gòu)單元的對(duì)稱(chēng)性,實(shí)現(xiàn)調(diào)節(jié)非對(duì)稱(chēng)傳輸模式的大小和位置,并產(chǎn)生新的極化轉(zhuǎn)化模式。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的極化轉(zhuǎn)化模式的調(diào)控方法,其特征在于:所述結(jié)構(gòu)參數(shù)是指第一橫體(1)和第三橫體(3)的長(zhǎng)度及第一豎體(4)和第二豎體(5)的長(zhǎng)度。
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