[發明專利]一種多層坩堝及其制造方法

在審

• 申請號: 201810296041.8
• 申請日: 2018-04-04
• 公開（公告）號: CN108411280A
• 公開（公告）日: 2018-08-17
• 發明（設計）人: 何軍舫;王軍勇
• 申請（專利權）人: 博宇（天津）半導體材料有限公司
• 主分類號: C23C16/34
• 分類號: C23C16/34
• 代理公司: 北京恒博知識產權代理有限公司 11528
• 代理人: 范勝祥

本發明提供了一種多層坩堝及其制造方法，所述多層坩堝由至少兩個坩堝層構成，其中相鄰兩個坩堝層中位于外側的坩堝層附著在位于內側的坩堝層的外壁上。本發明提供的多層坩堝及其制造方法具有結構簡單、利用率高和成本較低的優點。

技術領域

本發明涉及坩堝技術領域，尤其涉及一種多層坩堝及其制造方法。

背景技術

本發明對于背景技術的描述屬于與本發明相關的相關技術，僅僅是用于說明和便于理解本發明的發明內容，不應理解為申請人明確認為或推定申請人認為是本發明在首次提出申請的申請日的現有技術。

熱解氮化硼(簡稱PBN)坩堝由PBN制成，即使在高溫下，也不會與原料化合物反應，同時PBN坩堝純度高(99.999％)，表面致密，耐高溫，熱膨脹系數小，熱導率高，且有著明顯的各向異性，浸潤角大等優點。熱解法制備的BN坩堝具有自身純度高、較高的高溫性能等優點。但有時，坩堝內的原料經過高溫加熱后會粘結在坩堝內壁上，不易分離，且由于原料的膨脹率與坩堝的膨脹率相差較大，導致冷卻時造成坩堝破裂，從而需要更換新的坩堝，坩堝整體的利用率低。例如，鋁或銀在坩堝內進行高溫加熱蒸發后，殘余的鋁或銀液體會粘結在坩堝內壁上，低溫冷卻收縮后會使坩堝破裂，致使坩堝只能報廢，不能再次利用，這會使坩堝的利用率降低，并且更換坩堝需要時間，會降低生產效率，提高生產成本。

發明內容

為了解決坩堝利用率低的問題，本發明提供了一種利用率高的多層坩堝及其制造方法。

本發明第一方面實施例提供了一種多層坩堝，

所述多層坩堝由至少兩個坩堝層構成，其中

相鄰兩個坩堝層中位于外側的坩堝層附著在位于內側的坩堝層的外壁上。

優選地，相鄰兩個坩堝層中位于外側的坩堝層通過化學氣相沉積法附著在位于內側的坩堝層的外壁上。

優選地，所述坩堝為氣相沉積而成的氮化硼坩堝。

優選地，構成所述多層坩堝的至少兩個坩堝層中最外側的坩堝層的厚度占所述多層坩堝總厚度的二分之一至四分之三。

優選地，構成所述多層坩堝的至少兩個坩堝層中除了最外側的坩堝層，其他坩堝層的厚度基本相同，所述基本相同是指所述其他坩堝層每一層的實際厚度與所述其他坩堝層的總厚度除以所述其他坩堝層的層數所得平均后的厚度差不超過10％。

優選地，構成所述多層坩堝的至少兩個坩堝層中最外側的坩堝層的壁厚為0.05mm-2mm，除最外側的坩堝層之外的其他各坩堝層的單層厚度為0.01mm-0.5mm。

本發明第二方面實施例依據上述實施例提供了一種多層坩堝的制造方法，采用氣相沉積法，包括以下步驟：

由內至外依次沉積構成所述多層坩堝的各坩堝層；其中

當前坩堝層達到設計厚度后，停止氣相沉積，待間隔設定時間后開始沉積下一坩堝層，以使相鄰兩次沉積獲得具有一定結合度的相鄰坩堝層。

優選地，相鄰兩次氣相沉積之間間隔至少20分鐘。

優選地，所述氣相沉積采用的基體的材質為石墨。

優選地，至少兩個所述坩堝層的沉積生長方式是同質外延生長。

本發明具有以下有益效果：本發明實施例的多層坩堝由至少兩層坩堝層組成，使用時，即使最內側坩堝層發生破裂，剩余的坩堝層還能作為整體繼續使用，避免了整個坩堝都報廢的問題。提高了坩堝的利用率和生產效率，并節約了更換坩堝的時間和成本。

應當理解的是，以上的一般描述和后文的細節描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本發明。

附圖說明