[發(fā)明專利]取向膜的制造方法及液晶顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810294413.3
• 申請(qǐng)日: 2018-03-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108693673B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-01-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 小菅將洋
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日本顯示器
• 主分類號(hào): G02F1/1337
• 分類號(hào): G02F1/1337
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 楊宏軍;焦成美

1.取向膜的制造方法，其特征在于，包括：

在基板上形成有機(jī)膜的工序；

為了賦予液晶分子的取向控制能，而對(duì)所述有機(jī)膜照射偏振紫外線的工序；

在氧化前，對(duì)照射過(guò)所述偏振紫外線的有機(jī)膜于170℃至270℃的加熱溫度進(jìn)行加熱的工序；

將照射過(guò)所述偏振紫外線的有機(jī)膜氧化的氧化工序；

對(duì)所述氧化后的有機(jī)膜進(jìn)行清洗的清洗工序；和

將所述清洗后的有機(jī)膜干燥后，從所述干燥后的有機(jī)膜中除去二氧化碳從而將所述有機(jī)膜還原的還原工序。

2.如權(quán)利要求1所述的取向膜的制造方法，其中，形成所述有機(jī)膜的工序包括向所述基板上涂布有機(jī)膜材料的工序、和將所述有機(jī)膜材料加熱的第一加熱工序。

3.如權(quán)利要求1所述的取向膜的制造方法，其中，所述還原工序包括對(duì)利用所述清洗工序而進(jìn)行過(guò)所述清洗的有機(jī)膜進(jìn)行加熱的第三加熱工序。

4.如權(quán)利要求3所述的取向膜的制造方法，其中，所述第三加熱工序的加熱溫度為170℃至270℃。

5.如權(quán)利要求1所述的取向膜的制造方法，其用于制造使用幀頻小于60Hz的頻率的液晶顯示裝置。

6.如權(quán)利要求2所述的取向膜的制造方法，其用于制造使用幀頻小于60Hz的頻率的液晶顯示裝置。

7.如權(quán)利要求3所述的取向膜的制造方法，其用于制造使用幀頻小于60Hz的頻率的液晶顯示裝置。

8.如權(quán)利要求4所述的取向膜的制造方法，其用于制造使用幀頻小于60Hz的頻率的液晶顯示裝置。

9.液晶顯示裝置，其具備：

具有取向膜的第一基板；

與所述第一基板的所述取向膜側(cè)相對(duì)配置的第二基板；和

配置在所述第一基板與所述第二基板之間的液晶層，

所述液晶顯示裝置中，

所述取向膜的所述液晶層側(cè)的表面中的碳濃度低于所述取向膜的內(nèi)部中的碳濃度，

所述取向膜的所述液晶層側(cè)的表面中的氮濃度相對(duì)氧濃度、碳濃度與氮濃度的合計(jì)值而言的比率高于所述取向膜的內(nèi)部中的氮濃度相對(duì)氧濃度、碳濃度與氮濃度的合計(jì)值而言的比率。

10.如權(quán)利要求9所述的液晶顯示裝置，其中，所述取向膜的所述液晶層側(cè)的表面中的碳濃度相對(duì)氧濃度而言的比率低于所述取向膜的內(nèi)部中的碳濃度相對(duì)氧濃度而言的比率。