[發明專利]一種利用硫脲輔助超聲-芬頓聯合處理含金尾礦的方法在審
| 申請號: | 201810291775.7 | 申請日: | 2018-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN108486367A | 公開(公告)日: | 2018-09-04 |
| 發明(設計)人: | 郭軍康;任倩;陳樂;任心豪;魏婷;趙瑾;呂欣;李艷萍 | 申請(專利權)人: | 陜西科技大學 |
| 主分類號: | C22B3/06 | 分類號: | C22B3/06;C22B11/00 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 張弘 |
| 地址: | 710021 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 含金尾礦 超聲 硫脲 預處理 超聲活化 芬頓試劑 聯合處理 浸出 雙氧水 七水合硫酸亞鐵 貴金屬回收 品位 混合反應 溶液混合 研磨 浸出率 過篩 配比 催化劑 | ||
本發明涉及一種利用硫脲輔助超聲?芬頓聯合處理含金尾礦的方法,屬于有色貴金屬回收利用領域。具體如下:將含金尾礦研磨后過篩,然后加入一定量的、一定配比的芬頓試劑(七水合硫酸亞鐵溶液混合雙氧水)進行預處理,混合反應一段時間后加入微量的硫脲做超聲活化的催化劑,攪拌均勻進行超聲活化浸出,根據含金尾礦中金的品位不同其預處理中芬頓試劑的加入比例不同、浸出過程超聲的時間、功率不同。本發明方法可實現金品位2.17g/t及其以上,浸出率可達60%~95%。
技術領域
本發明色貴金屬回收利用領域,特別涉一種利用硫脲輔助超聲-芬頓聯合處理含金尾礦的方法。
背景技術
隨著人類對黃金的需求量不斷增加,地球上易采的金礦資源越來越少,從含金尾礦中對金進行高效的資源化回收也就顯得格外重要。據統計我國黃金系統每年排放的尾礦已超過萬噸,目前尾礦綜合利用率不到20%,一般仍采用堆存方法處理,不僅占用大量的土地,造成尾礦庫周圍環境污染,而且需投入大量資金用于尾礦庫修筑及維護。
對于尾礦的資源化回收常用的方法有重選法、混汞法、氰化法、浮選法、硫脈法和嗅化法等。這些方法在不同的歷史時期、不同的礦山企業均被利用過,并發揮了一定作用,也曾推動過黃金開采的發展。用自重法處理被脈石所包裹的微細粒金礦物其浸出率很低,且浸出時間超長,回收不徹底的尾礦會以固體廢棄物的形式丟棄,這不僅導致資源浪費,并且對環境造成嚴重的污染。混汞法和氰化法由于其具有較強的環境污染,相繼被叫停。硫脈法和漠化法雖然對環境無危害,但受礦石類型的制約,僅適合焙燒后的氧化礦,尚未廣泛應用于提金。浮選法和重選法的適應性也僅限于有限的礦石類型。磁流體選雖然無環境污染,但僅限于砂金的精選,代替混汞作業,由于其僅限于砂金的精選,且處理量太小、費用較高,也僅在個別礦山試用過。
隨著科技的進步和社會的發展,人們對環境的要求越來越嚴,資源短缺與環境惡化的矛盾越來越突出。因此,對于黃金尾礦綜合利用已成為黃金礦山資源綜合利用和保護生態環境方面的重要課題。
文獻《泉山金礦氰化尾礦焙燒-超聲波強化硫脲提金試驗研究》提出了焙燒處理對金氰化尾礦的硫脲浸金有很大的促進作用,金的浸出率大大提高,而焙燒處理與超聲波共同作用于硫脲浸金,可以進一步提高金浸出率。但設備的投資高,耗能較大,且硫脲有效利用率低,易造成工業二次污染。文獻《細微粒金礦石中金的提取工藝研究》以細微粒金礦為研究對象,對細微粒金礦物進行了提取工藝的分析,針對細微粒金礦物的特點,采用了一種提金方案,進行了比較好的提取方法,即浮選精礦氧化焙燒氰化浸出法,最后確定出細微粒金礦使用浮選精礦氧化焙燒氰化浸出為有效的提金方法。但用氰化法處理含金尾礦對環境污染大,有毒,且浸出率較低,對金含量較低的尾礦不太適合。文獻《Precious metalrecovery from waste printed circuit boards using cyanide and non-cyanidelixiviants》提出加入一定量的硫脲有利于金的浸取,硫脈法浸金具有無毒、浸取率高、浸取速度快,但由于硫脈本身不穩定,且和銅等金屬離子發生反應,在浸取過程中消耗量大,使生產成本增加。
那么如何強化浸金工藝,在提高浸出率的同時縮短浸出時間從而達到減少設備投資、節約工藝運行成本、減少工業二次污染成為現階段含金尾礦處理的一大難題。因此,迫切需要一種全新的尾礦處理方法對金屬進行高效無污染的回收。
發明內容
本發明針對于現有的含金尾礦處理方法提出了一種利用硫脲-超聲波-芬頓聯合來處理含金尾礦的新型方法,保證了較高的尾礦金浸出率、滿足較低的設備投資要求,經濟節約,友好環境。
本發明的技術方案是通過如下所實施的:
一種利用硫脲輔助超聲-芬頓聯合處理含金尾礦的方法,包括以下步驟:
步驟一:過篩
將研磨后的含金尾礦過40目~100目篩網進行篩選;
步驟二:與芬頓試劑混合反應
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