[發明專利]一種多彩色低輻射陽光控制鍍膜玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 201810283502.8
• 申請日: 2018-04-02
• 公開（公告）號: CN108358467B
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 劉起英;孔繁華;宋廣碧;葉志會;趙年偉;曹涯雁;張永杰;房振華;袁曙光;連超;邱德軍
• 申請（專利權）人: 威海中玻新材料技術研發有限公司
• 主分類號: C03C17/34
• 分類號: C03C17/34
• 代理公司: 北京怡豐知識產權代理有限公司 11293
• 代理人: 于振強

1.一種多彩色低輻射陽光控制鍍膜玻璃的制備方法，所述多彩色低輻射陽光控制鍍膜玻璃具有膜層結構，所述膜層結構由底層和上層兩層膜組成，所述底層為折射率調節層，其成份是二氧化硅，摻雜碳和磷；所述上層為著色低輻射層，其成份為氧化錫層，摻雜氟和硼，所述折射率調節層厚度為20～80nm，折射率為1.55～1.9,所述著色低輻射層厚度為80～380nm，其特征是包括以下步驟：

(1)在浮法玻璃生產線錫槽內，將硅烷、乙烯、二氧化碳，以氮氣或氬氣惰性氣體為載體組成第一路混合氣體；將磷酸三乙酯通過加熱汽化，以惰性氣體氮氣或氬氣為載氣組成第二路混合氣體，二路混合氣體同時從反應器的兩個通道噴出，在玻璃上熱解疊加形成折射率調節層；

(2)在浮法玻璃生產線退火窯A0區中，設置多路進氣多路排氣結構的反應器，將已被汽化的酸和有機錫化合物的混合體、摻雜劑、催化劑預混合制成的氣體混合物，用空氣做載體，通入到已沉積折射率調節層的浮法玻璃帶表面，以高于的沉積速度進行熱分解形成厚度為80～380nm，輻射率E小于0.5的著色低輻射層；

所述著色低輻射層的氣體混合物的錫化合物為二氯二丁基錫；摻雜劑為三氟化硼；催化劑為水；

所述著色低輻射層的氣體混合物中各成分的摩爾百分數分別是：錫化合物0.3～10mol％、摻雜劑0.1～6mol％、催化劑0.1～4.5mol％，其余為空氣；氣體混合物總量為100～650立方米/小時；

所述步驟(1)所用的各種氣體用惰性氣體氮氣或氬氣稀釋，硅烷體積百分比濃度為2～30％，乙烯體積百分比濃度為90～100％，二氧化碳體積百分比濃度為2～30％；

所述混合氣體成分的體積百分比為，硅烷0.001～0.01％，乙烯0.005～0.02％，二氧化碳1.5～2.5％，其余為氮氣；所述第一路混合氣體的流量控制在5～35升/分鐘，磷酸三乙酯摩爾濃度為0.001～0.02mol％，所述第二路混合氣體的流量控制在10～35升/分鐘。