[發明專利]一種耐高溫的放大光纖有效
| 申請號： | 201810282489.4 | 申請日： | 2018-04-02 |
| 公開（公告）號： | CN108363140B | 公開（公告）日： | 2019-11-15 |
| 發明（設計）人： | 高雙斌 | 申請（專利權）人： | 武漢虹拓新技術有限責任公司 |
| 主分類號： | G02B6/02 | 分類號： | G02B6/02 |
| 代理公司： | 11002 北京路浩知識產權代理有限公司 | 代理人： | 王文君;陳征<國際申請>=<國際公布>= |
| 地址： | 430206湖北省武漢市東湖開發*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光纖 放大光纖 鎳金屬層 包層 非鎳金屬層 金屬膜 耐高溫 涂覆層 散熱 減小 材料選擇 傳統光纖 激光領域 耐腐蝕性 溫度分布 溫度梯度 整體光纖 熱應力 纖芯 與非 損傷 優化 | ||
1.一種耐高溫的放大光纖，其特征在于，所述放大光纖包括纖芯、包層和金屬膜涂覆層，所述金屬膜涂覆層包括鎳金屬層和非鎳金屬層，其中，鎳金屬層設置在非鎳金屬層和包層之間，并與非鎳金屬層和包層相連接；所述非鎳金屬層與鎳金屬層的厚度比為(1.5-4):1。
2.根據權利要求1所述的放大光纖，其特征在于，所述金屬膜涂覆層中的非鎳金屬層的金屬材料選自銅、鎳、銀、鋁金屬中的至少一種。
3.根據權利要求2所述的放大光纖，其特征在于，所述金屬膜涂覆層中的非鎳金屬層的金屬材料選自銅。
4.根據權利要求3所述的放大光纖，其特征在于，所述鎳金屬層和非鎳金屬層以離子濺射的方式涂覆。
5.根據權利要求1-4任一項所述的放大光纖，其特征在于，所述金屬膜涂覆層的總厚度與纖芯的直徑的比例為(5-6)：3。
6.根據權利要求5所述的放大光纖，其特征在于，所述纖芯的直徑為25um-35um。
7.根據權利要求1-4任一項所述的放大光纖，其特征在于，所述非鎳金屬層與鎳金屬層的厚度比為7:3。
8.根據權利要求5所述的放大光纖，其特征在于，所述非鎳金屬層與鎳金屬層的厚度比為7:3。
9.根據權利要求1-4任一項所述的放大光纖，其特征在于，所述非鎳金屬層的厚度與纖芯的直徑的比例為(3-4)：3；
和/或，
所述鎳金屬層的厚度與纖芯的直徑的比例為(1-2)：3。
10.根據權利要求5所述的放大光纖，其特征在于，所述非鎳金屬層的厚度與纖芯的直徑的比例為(3-4)：3；
和/或，
所述鎳金屬層的厚度與纖芯的直徑的比例為(1-2)：3。
11.根據權利要求1-4任一項所述的放大光纖，其特征在于，
所述包層的制備材料選自石英玻璃、硫系玻璃或氟系玻璃中的一種。
12.根據權利要求5所述的放大光纖，其特征在于，
所述包層的制備材料選自石英玻璃、硫系玻璃或氟系玻璃中的一種。
13.根據權利要求7所述的放大光纖，其特征在于，
所述包層的制備材料選自石英玻璃、硫系玻璃或氟系玻璃中的一種。
14.根據權利要求9所述的放大光纖，其特征在于，
所述包層的制備材料選自石英玻璃、硫系玻璃或氟系玻璃中的一種。
15.根據權利要求11所述的放大光纖，其特征在于，
所述包層的制備材料為石英玻璃。
16.根據權利要求1-4任一項所述的放大光纖，其特征在于，
所述纖芯是在石英玻璃基礎上摻雜鐿離子所制備而得；包層吸收率是25-30dB/m@975nm。
17.根據權利要求5所述的放大光纖，其特征在于，
所述纖芯是在石英玻璃基礎上摻雜鐿離子所制備而得；包層吸收率是25-30dB/m@975nm。
18.根據權利要求7所述的放大光纖，其特征在于，
所述纖芯是在石英玻璃基礎上摻雜鐿離子所制備而得；包層吸收率是25-30dB/m@975nm。
19.根據權利要求9所述的放大光纖，其特征在于，
所述纖芯是在石英玻璃基礎上摻雜鐿離子所制備而得；包層吸收率是25-30dB/m@975nm。
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