[發(fā)明專利]新型圖像分割方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810275419.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110322455A | 公開(公告)日: | 2019-10-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張杰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 張杰 |
| 主分類號(hào): | G06T7/12 | 分類號(hào): | G06T7/12;G06T7/136;G06T7/181 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610000 四川*** | 國(guó)省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 新型圖像 邊緣點(diǎn) 邊緣檢測(cè) 尺度變換 多維向量 二維向量 局部變化 局部灰度 特征序列 提取圖像 圖像分割 向量合成 形成系統(tǒng) 有效檢測(cè) 重新組合 邊緣鏈 檢測(cè)點(diǎn) 分割 灰度 向量 抽取 單調(diào) 合成 圖像 檢測(cè) | ||
本發(fā)明公開了新型圖像分割方法,涉及圖像分割邊緣檢測(cè),包括提取圖像基本特征形成系統(tǒng)框架,還包括以下步驟:將抽取的圖像基本特征組合為多維向量集;對(duì)向量進(jìn)行尺度變換為其他向量合成積與灰度值的二維向量;檢測(cè)局部灰度值單調(diào)變換大于最小值100個(gè)單位的點(diǎn);將檢測(cè)點(diǎn)對(duì)應(yīng)合成積重新組合形成邊緣鏈表。本發(fā)明能夠有效檢測(cè)出最佳邊緣點(diǎn),并確定出邊緣點(diǎn)的特征序列,具有良好的局部變化特性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種圖像分割邊緣檢測(cè),具體涉及新型圖像分割方法。
背景技術(shù)
在圖像分割技術(shù)中,最常用的是利用閾值化處理進(jìn)行的圖像分割。在圖像的閾值化處理過程中,選用不同的閾值其處理結(jié)果差異很大;閾值過大,會(huì)提取多余的部分;閾值過小,又會(huì)丟失所需的部分。實(shí)際上,這種閾值選取方法是很低效的,通常無法做到精細(xì)化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是現(xiàn)有閾值分割方法無法做到局部?jī)?yōu)化,目的在于提供新型圖像分割方法,解決問題。
新型圖像分割方法,包括提取圖像基本特征形成系統(tǒng)框架,還包括以下步驟:
將抽取的圖像基本特征組合為多維向量集;
對(duì)向量進(jìn)行尺度變換為其他向量合成積與灰度值的二維向量;
檢測(cè)局部灰度值單調(diào)變換大于最小值100個(gè)單位的點(diǎn);
將檢測(cè)點(diǎn)對(duì)應(yīng)合成積重新組合形成邊緣鏈表。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,具有如下的優(yōu)點(diǎn)和有益效果:
本發(fā)明新型圖像分割方法,能夠有效檢測(cè)出最佳邊緣點(diǎn),并確定出邊緣點(diǎn)的特征序列,具有良好的局部變化特性;
具體實(shí)施方式
為使本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,下面結(jié)合實(shí)施例,對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)說明,本發(fā)明的示意性實(shí)施方式及其說明僅用于解釋本發(fā)明,并不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
實(shí)施例
本發(fā)明新型圖像分割方法,包括提取圖像基本特征形成系統(tǒng)框架,還包括以下步驟:
將抽取的圖像基本特征組合為多維向量集;
對(duì)向量進(jìn)行尺度變換為其他向量合成積與灰度值的二維向量;
檢測(cè)局部灰度值單調(diào)變換大于最小值100個(gè)單位的點(diǎn);
將檢測(cè)點(diǎn)對(duì)應(yīng)合成積重新組合形成邊緣鏈表。
以上所述的具體實(shí)施方式,對(duì)本發(fā)明的目的、技術(shù)方案和有益效果進(jìn)行了進(jìn)一步詳細(xì)說明,所應(yīng)理解的是,以上所述僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式而已,并不用于限定本發(fā)明的保護(hù)范圍,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所做的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于張杰,未經(jīng)張杰許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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