[發明專利]電致發光器件及其制作方法

在審

• 申請號: 201810273975.X
• 申請日: 2018-03-29
• 公開（公告）號: CN109742248A
• 公開（公告）日: 2019-05-10
• 發明（設計）人: 劉新
• 申請（專利權）人: 廣東聚華印刷顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/50
• 分類號: H01L51/50;H01L51/56
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 方菲

本發明涉及一種電致發光器件及其制作方法，該電致發光器件包括陽極層、像素界定層、陽極緩沖層、空穴功能層、發光層、電子功能層和陰極層，像素界定層和陽極層相配合形成像素坑，陽極緩沖層的材料為絕緣材料，陽極緩沖層設于像素坑內的陽極層上，空穴功能層設于陽極緩沖層上，發光層設于像素坑內的空穴功能層上，電子功能層設于發光層上，陰極層設于電子功能層上和像素界定層上。該電致發光器件通過在陽極層上設置較薄的陽極緩沖層，能夠降低空穴遷移率，從而能夠抑制空穴注入，使載流子注入趨向平衡，提高電致發光器件以及包含該電致發光器件的顯示裝置的發光性能。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，特別是涉及一種電致發光器件及其制作方法。

背景技術

有機電致發光二極管(OLED)具有自發光、反應快、視角廣、對比度高、低功耗等優點，被應用于新一代手機屏幕、電腦顯示器、全彩電視等領域，受到大家廣泛關注。

目前，OLED器件中的各膜層主要通過蒸鍍工藝制備。但由于真空蒸鍍設備昂貴，且無法制備大面積OLED器件，限制了OLED顯示器的大規模使用。噴墨打印工藝具有材料利用率高、無須受到大尺寸金屬掩膜板的限制，是實現低成本制備大尺寸OLED顯示器的關鍵技術。

近年來，通過OLED材料的改進、打印工藝的改善以及器件結構的優化，印刷OLED器件的性能有了大幅提升。但從目前OLED器件所用的材料來看，空穴注入材料或空穴傳輸材料的空穴遷移率遠大于電子注入材料或電子傳輸材料的電子遷移率(超出約兩個數量級)，使得空穴注入相對容易，電子注入相對困難，導致載流子注入不平衡，影響器件性能，因此需要進一步對器件結構進行優化。

發明內容

基于此，有必要提供一種能夠平衡載流子注入的電致發光器件及其制作方法。

一種電致發光器件，包括：

陽極層；

像素界定層，所述像素界定層和所述陽極層相配合形成像素坑；

陽極緩沖層，所述陽極緩沖層的材料為絕緣材料，所述陽極緩沖層設于所述像素坑內的所述陽極層上；

空穴功能層，所述空穴功能層設于所述陽極緩沖層上；

發光層，所述發光層設于所述像素坑內的所述空穴功能層上；

電子功能層，所述電子功能層設于所述發光層上；以及

陰極層，所述陰極層設于所述電子功能層上和所述像素界定層上。

在其中一個實施例中，所述陽極緩沖層的材料為親水性絕緣材料。

在其中一個實施例中，所述陽極緩沖層的材料為超親水性氧化物或含有所述超親水性氧化物的超親水性復合材料。

在其中一個實施例中，所述陽極緩沖層的材料為光致超親水性氧化物或含有所述光致超親水性氧化物的超親水性復合材料。

在其中一個實施例中，所述陽極緩沖層的材料選自TiO₂、WO₃、ZnO₂、ZrO₂和Pr₂O₃的一種或多種。

在其中一個實施例中，所述絕緣親水層的厚度為0.5～5nm。

在其中一個實施例中，所述空穴功能層包括空穴注入層和/或空穴傳輸層；所述電子功能層包括電子注入層和/或電子傳輸層。

在其中一個實施例中，所述陽極層為ITO電極層。

一種電致發光器件的制作方法，包括如下步驟：

提供基板，所述基板上設置有陽極層和像素界定層，所述像素界定層和所述陽極層相配合形成像素坑；