[發明專利]一種筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝在審
| 申請號: | 201810272400.6 | 申請日: | 2018-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN108570646A | 公開(公告)日: | 2018-09-25 |
| 發明(設計)人: | 呂永和 | 申請(專利權)人: | 瑞宏精密電子(太倉)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C25D11/02;B05D5/00;B05D3/06 |
| 代理公司: | 蘇州市方略專利代理事務所(普通合伙) 32267 | 代理人: | 馬廣旭 |
| 地址: | 215400 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 筆記本電腦外殼 涂布印刷 接觸層 抗指紋 紋路 處理工藝 烘烤固化 染色層 壓印 油墨 模具 表面處理技術 板材表面 烘烤 染色 膜層 上光 移除 附著 固化 透明 制作 | ||
本發明公開了一種筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,屬于表面處理技術領域,包括以下步驟:1)對筆記本電腦外殼板材做上光處理;2)在筆記本電腦外殼板材表面形成第一接觸層;3)在第一接觸層涂上一層油墨;4)涂布完油墨,進行第一次涂布印刷,形成第一次涂布印刷層;5)對筆記本電腦外殼板材進行烘烤,烘烤固化之后,進行染色,形成染色層;6)在染色層上方進行第二次涂布印刷,形成第二次涂布印刷層,繼續烘烤固化;7)在壓印之前,需要在所有層次上方附著一層第二接觸層;8)用模具進行壓印,制作紋路,固化,移除模具;9)涂布一層UV膠,保護已形成的紋路;10)在UV膠上鍍透明抗指紋膜層。
技術領域
本發明屬于表面處理技術領域,特別涉及一種筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝。
背景技術
隨著 3C 電子產品的使用越來越頻繁,消費者對產品的外觀也有了越來越高的要求。 除了要求產品外殼色彩美觀、手感舒適,還要求其表面具有較好的耐磨性、抗刮傷性、以及抗指紋 (anti-fingerprint) 性能。
目前業界使用較多的抗指紋方法是在基材噴涂一層有機化學物質,如抗指紋涂料或抗指紋油等,通過加熱或干燥使其附著在基材上形成色彩鮮艷,具有一定抗指紋效果的有機涂層。但是這種涂層制備工藝很繁瑣,而且還存在游離甲醛等不利于環保和人體健康的化學物質。此外,上述有機涂層耐磨性能較差,使用一段時間后容易磨損。同時,筆記本電腦外殼在生產過程中,為追求金屬炫麗感,外觀面制作高光效果紋理。此紋理呈鏡面會反光,指紋印呈現明顯,影響美觀性。因此外觀面增加抗指紋及抗油污性鍍膜制程,易擦拭,更具美觀。
發明內容
發明目的:為了克服以上不足,本發明的目的是提供一種筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,解決的是筆記本電腦外殼外觀抗指紋抗污問題,其能有效解決現有之保護玻璃容易粘上灰塵等污物,并且容易留下指紋,使得產品外觀不美觀并且影響產品使用性能的問題。
技術方案:一種筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,包括以下步驟:
1)對筆記本電腦外殼板材做上光處理;
2)在筆記本電腦外殼板材表面形成第一接觸層;
3)在第一接觸層涂上一層油墨;
4)涂布完油墨,進行第一次涂布印刷,形成第一次涂布印刷層;
5)對筆記本電腦外殼板材進行烘烤,烘烤固化之后,進行染色,形成染色層;
6)在染色層上方進行第二次涂布印刷,形成第二次涂布印刷層,繼續烘烤固化;
7)在壓印之前,需要在所有層次上方附著一層第二接觸層;
8)用模具進行壓印,制作紋路,固化,移除模具;
9)涂布一層UV膠,保護已形成的紋路;
10)在UV膠上鍍透明抗指紋膜層。
進一步的,上述的筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,所述第一接觸層、油墨、第一次涂布印刷層、染色層和第二次涂布印刷層形成NIL層。
進一步的,上述的筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,所述步驟2)-6)中采用真空蒸鍍。
進一步的,上述的筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,所述步驟2)-6)中采用陽極氧化。
進一步的,上述的筆記本電腦外殼的表面抗指紋處理工藝,所述UV膠進行固化,包括以下步驟:
1)在第二接觸層上涂布UV膠;
2)提供UV光源,并打開UV光源對UV膠進行第一次照射;
3)關閉UV光源,間隔50-秒后,打開UV光源對UV膠進行第二次照射;
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于瑞宏精密電子(太倉)有限公司,未經瑞宏精密電子(太倉)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201810272400.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





