[發(fā)明專利]顯示基板及顯示基板制備方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810271202.8 | 申請日: | 2018-03-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108539029A | 公開(公告)日: | 2018-09-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳昊;張曉珍;何麟 | 申請(專利權(quán))人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L51/50 | 分類號(hào): | H01L51/50;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京布瑞知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11505 | 代理人: | 孟潭 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示基板 電子傳輸層 像素單元 像素層 制備 層疊設(shè)置 有效實(shí)現(xiàn) 優(yōu)選 | ||
本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板及顯示基板制備方法,該顯示基板包括像素層和層疊設(shè)置于像素層上的電子傳輸層,像素層包括多個(gè)像素單元,各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度不完全相同。本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板通過根據(jù)像素單元的具體特性將其所對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的厚度設(shè)定為最優(yōu)電子傳輸層厚度的方式,也就是說,本發(fā)明實(shí)施例通過將顯示基板各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的厚度設(shè)定為不完全相同的方式,有效實(shí)現(xiàn)了提高顯示基板的壽命的目的,此外,本發(fā)明通過設(shè)定各像素單元所對(duì)應(yīng)的電子傳輸層優(yōu)選厚度范圍的方式,實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步顯著提高顯示基板的壽命的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種顯示基板及顯示基板制備方法。
背景技術(shù)
隨著顯示技術(shù)的發(fā)展,消費(fèi)者對(duì)顯示裝置的顯示要求越來越高。然而,有機(jī)發(fā)光二極管(Organic Light Emitting Diode,OLED)憑借其自發(fā)光、高亮度、廣視角、快速反應(yīng)以及RGB全彩組件皆可制作等特質(zhì),被廣泛應(yīng)用于顯示裝置中。
但是,現(xiàn)有OLED器件中發(fā)光層的有機(jī)材料的衰減程度不一致,衰減程度不一致的有機(jī)材料會(huì)導(dǎo)致OLED器件出現(xiàn)顯示殘影、顯示畫面不均等問題,從而最終導(dǎo)致OLED器件的壽命偏低現(xiàn)象。壽命偏低的OLED器件已嚴(yán)重制約了OLED產(chǎn)業(yè)的發(fā)展,因此有效提升顯示器件壽命成為當(dāng)務(wù)之急。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明實(shí)施例致力于提供一種顯示基板及顯示基板制備方法,以解決現(xiàn)有顯示裝置壽命偏低的問題。
第一方面,本發(fā)明一實(shí)施例提供一種顯示基板,該顯示基板包括像素層和層疊設(shè)置于像素層上的電子傳輸層,像素層包括多個(gè)像素單元,各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度不完全相同。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,各像素單元的對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度根據(jù)像素單元的電流效率和壽命值得出。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,像素單元包括紅色像素單元、綠色像素單元、藍(lán)色像素單元中的至少一種。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,紅色像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度范圍為200埃至500埃。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,綠色像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度范圍為150埃至450埃。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,藍(lán)色像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度范圍為150埃至450埃。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,多個(gè)像素單元各自獨(dú)立成島,各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域分別獨(dú)立對(duì)應(yīng)覆蓋到各像素單元上。
第二方面,本發(fā)明另一實(shí)施例還提供一種顯示基板制備方法,該方法包括:在顯示基材上設(shè)置包括多個(gè)像素單元的像素層;在像素層上蒸鍍電子傳輸層,其中,蒸鍍的各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度不完全相同。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,電子傳輸層采用精密金屬掩膜板蒸鍍而成。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,在像素層上蒸鍍電子傳輸層,其中,蒸鍍的各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度不完全相同步驟包括:設(shè)定各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度值;根據(jù)設(shè)定的厚度值分別蒸鍍與各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域。
在本發(fā)明一實(shí)施例中,設(shè)定各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度值步驟包括通過實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度與像素單元的電流效率和壽命值的關(guān)系,根據(jù)該關(guān)系設(shè)定像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的區(qū)域的厚度。
本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板通過根據(jù)像素單元的具體特性將其所對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的厚度設(shè)定為最優(yōu)電子傳輸層厚度的方式,也就是說,本發(fā)明實(shí)施例通過將顯示基板各像素單元對(duì)應(yīng)的電子傳輸層的厚度設(shè)定為不完全相同的方式,有效實(shí)現(xiàn)了提高顯示基板的壽命的目的,此外,本發(fā)明通過設(shè)定各像素單元所對(duì)應(yīng)的電子傳輸層優(yōu)選厚度范圍的方式,實(shí)現(xiàn)了進(jìn)一步顯著提高顯示基板的壽命的目的。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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