[發(fā)明專利]水晶平面研磨裝置及其磨頭結(jié)構(gòu)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201810270723.1
• 申請(qǐng)日: 2018-03-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN108296980A
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-07-20
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陸海鋒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 德清晶生光電科技有限公司
• 主分類號(hào): B24B37/11
• 分類號(hào): B24B37/11;B24B37/34;B24B41/04
• 代理公司: 杭州豐禾專利事務(wù)所有限公司 33214
• 代理人: 王曉峰

1.一種磨頭結(jié)構(gòu)，包括主磨頭（1），其特征在于：所述的主磨頭（1）由能被磁性材料吸附的材料制成，所述的主磨頭（1）上端設(shè)有水平研磨端面（11），所述的水平研磨端面（11）上設(shè)有平面研磨片（2），所述的平面研磨片（2）亦由能被磁性材料吸附的材料制成，所述的水平研磨端面（11）和平面研磨片（2）之間設(shè)有磁性吸附組件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的磁性吸附組件包括若干吸附磁片（31）。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的平面研磨片（2）外鍍?cè)O(shè)有一層金剛砂層。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的吸附磁片（31）橫截面為圓形且呈扁平狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的平面研磨片（2）底側(cè)面上開(kāi)設(shè)有若干橫截面大小、形狀與吸附磁片（31）相適配的用于放置吸附磁片（31）的磁片定位淺槽（4）。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的吸附磁片（31）的厚度略大于磁片定位淺槽（4）的槽深。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨頭結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的平面研磨片（2）中心開(kāi)設(shè)有定位通孔（5）。

8.一種水晶平面研磨裝置，包括機(jī)箱（6），所述的機(jī)箱（6）并設(shè)有兩臺(tái)直流驅(qū)動(dòng)電機(jī)（7），其特征在于：每所述的直流驅(qū)動(dòng)電機(jī)（7）各自與一個(gè)根據(jù)權(quán)利要求1至7任一所述的磨頭結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)動(dòng)連接，所述的機(jī)箱（6）上端并行開(kāi)設(shè)有兩個(gè)供接料盤(pán)（8）安裝的安裝口，所述的主磨頭（1）設(shè)于接料盤(pán)（8）內(nèi)，所述的直流驅(qū)動(dòng)電機(jī)（7）通過(guò)接料盤(pán)（8）底部開(kāi)設(shè)的連接通孔與主磨頭（1）連接。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的水晶平面研磨裝置，其特征在于，所述的接料盤(pán)（8）周側(cè)設(shè)有圈形圍擋片（81）。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的水晶平面研磨裝置，其特征在于，所述的圈形圍擋片（81）和接料盤(pán)（8）之間設(shè)有周側(cè)設(shè)有環(huán)形平臺(tái)（82）。