[發明專利]水樣分析設備在審
| 申請號: | 201810270691.5 | 申請日: | 2018-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN110208473A | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發明(設計)人: | 陳又銘;郭明達 | 申請(專利權)人: | 總翔企業股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N33/18 | 分類號: | G01N33/18 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 徐秋平 |
| 地址: | 中國臺灣高雄市苓雅*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 非揮發性 水樣 總有機碳分析 水樣分析儀 水樣分析 總有機碳 殘留氣體 容置空間 循環流動 反吹 排出 分析 | ||
1.一種水樣分析設備,用于分析一水樣中的非揮發性總有機碳的含量,其特征在于,包括:
一設備本體,所述設備本體的內部具有一容置空間,所述容置空間容置定量的所述水樣;
一水樣分析儀,連通所述容置空間,分析所述容置空間內的所述水樣中的所述非揮發性總有機碳的含量;
一流體排放管路,連通所述容置空間;
一UV光提供模塊,所述UV光提供模塊連通所述容置空間,用于提供一UV光;
一第一載氣提供模塊,連通所述水樣分析儀或所述容置空間,用于提供一第一載氣;以及
一執行模塊,所述執行模塊依序執行一反吹作業與一非揮發性總有機碳分析作業;其中,
當所述執行模塊執行所述反吹作業時,開啟所述流體排放管路,而所述第一載氣提供模塊連通所述水樣分析儀,對所述水樣分析儀提供所述第一載氣,以使所述水樣分析儀內的一先前殘留氣體隨著所述第一載氣進入所述容置空間,而后經由所述流體排放管路排出所述容置空間;以及
當所述執行模塊執行所述非揮發性總有機碳分析作業時,關閉所述流體排放管路,令所述水樣在所述容置空間與所述UV光提供模塊之間循環流動,對流經所述UV光提供模塊的所述水樣提供所述UV光,從而氧化所述水樣中的所述非揮發性總有機碳以生成一非揮發性總有機碳氣態氧化物,接著,令所述第一載氣提供模塊向所述容置空間提供所述第一載氣,以迫使所述水樣中的所述非揮發性總有機碳氣態氧化物釋出,而進入所述水樣分析儀,而對所述容置空間內的所述水樣中的所述非揮發性總有機碳的含量進行分析。
2.如權利要求1所述的水樣分析設備,其特征在于,所述非揮發性總有機碳氣態氧化物為二氧化碳。
3.如權利要求1所述的水樣分析設備,其特征在于,還包括一二氧化碳吸附劑,所述二氧化碳吸附劑連通所述第一載氣提供模塊,吸附所述第一載氣中包含的二氧化碳。
4.如權利要求1所述的水樣分析設備,其特征在于,所述水樣分析儀為一非分布式紅外線分析儀。
5.如權利要求1所述的水樣分析設備,其特征在于,所述UV光的光波長介于200至280nm之間。
6.如權利要求1所述的水樣分析設備,其特征在于,所述容置空間具有一溢流水位與一定量水位,所述溢流水位高于所述定量水位,所述流體排放管路自所述容置空間的所述溢流水位延伸至所述設備本體外,所述水樣分析設備還包括:
一水樣導入管路,所述水樣導入管路連通所述容置空間的底部;以及
一定量排水管路,所述定量排水管路連通所述容置空間,自所述容置空間的所述定量水位延伸至所述設備本體外;其中,
所述執行模塊還執行一水樣導入作業,當所述執行模塊執行所述水樣導入作業時,開啟所述流體排放管路,令所述水樣導入管路啟動導入,將所述水樣自所述容置空間的底部導入所述容置空間中,并藉由所述流體排放管路排出所述容置空間內超出所述溢流水位的所述水樣,以使所述水樣于所述容置空間內的水位處于所述溢流水位,而后,關閉所述水樣導入管路,并開啟所述定量排水管路,藉由所述定量排水管路排出所述容置空間內超出所述定量水位的所述水樣,以使所述水樣于所述容置空間內的水位處于所述定量水位,以使所述容置空間容置有所述定量的所述水樣。
7.如權利要求6所述的水樣分析設備,其特征在于,所述容置空間具有一循環高水位與一循環低水位,所述水樣分析設備還包括:
一水樣循環管路,所述水樣循環管路連通所述容置空間,并自所述循環低水位經由所述UV光提供模塊延伸至所述循環高水位;
當所述執行模塊執行所述非揮發性總有機碳分析作業時,令所述水樣循環管路驅使所述容置空間的所述水樣,由所述循環低水位經由所述UV光提供模塊流向所述循環高水位而后再次進入所述容置空間,以實現所述水樣在所述容置空間與所述UV光提供模塊之間的循環流動。
8.如權利要求6所述的水樣分析設備,其特征在于,所述循環高水位高于所述定量水位,而所述循環低水位低于所述定量水位。
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