[發(fā)明專利]水樣分析設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810270691.5 | 申請日： | 2018-03-29 |
| 公開（公告）號： | CN110208473A | 公開（公告）日： | 2019-09-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳又銘;郭明達 | 申請（專利權(quán)）人： | 總翔企業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | G01N33/18 | 分類號： | G01N33/18 |
| 代理公司： | 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 徐秋平 |
| 地址： | 中國臺灣高雄市苓雅*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 非揮發(fā)性 水樣 總有機碳分析 水樣分析儀 水樣分析 總有機碳 殘留氣體 容置空間 循環(huán)流動 反吹 排出 分析 | ||
1.一種水樣分析設(shè)備，用于分析一水樣中的非揮發(fā)性總有機碳的含量，其特征在于，包括：
一設(shè)備本體，所述設(shè)備本體的內(nèi)部具有一容置空間，所述容置空間容置定量的所述水樣；
一水樣分析儀，連通所述容置空間，分析所述容置空間內(nèi)的所述水樣中的所述非揮發(fā)性總有機碳的含量；
一流體排放管路，連通所述容置空間；
一UV光提供模塊，所述UV光提供模塊連通所述容置空間，用于提供一UV光；
一第一載氣提供模塊，連通所述水樣分析儀或所述容置空間，用于提供一第一載氣；以及
一執(zhí)行模塊，所述執(zhí)行模塊依序執(zhí)行一反吹作業(yè)與一非揮發(fā)性總有機碳分析作業(yè)；其中，
當所述執(zhí)行模塊執(zhí)行所述反吹作業(yè)時，開啟所述流體排放管路，而所述第一載氣提供模塊連通所述水樣分析儀，對所述水樣分析儀提供所述第一載氣，以使所述水樣分析儀內(nèi)的一先前殘留氣體隨著所述第一載氣進入所述容置空間，而后經(jīng)由所述流體排放管路排出所述容置空間；以及
當所述執(zhí)行模塊執(zhí)行所述非揮發(fā)性總有機碳分析作業(yè)時，關(guān)閉所述流體排放管路，令所述水樣在所述容置空間與所述UV光提供模塊之間循環(huán)流動，對流經(jīng)所述UV光提供模塊的所述水樣提供所述UV光，從而氧化所述水樣中的所述非揮發(fā)性總有機碳以生成一非揮發(fā)性總有機碳氣態(tài)氧化物，接著，令所述第一載氣提供模塊向所述容置空間提供所述第一載氣，以迫使所述水樣中的所述非揮發(fā)性總有機碳氣態(tài)氧化物釋出，而進入所述水樣分析儀，而對所述容置空間內(nèi)的所述水樣中的所述非揮發(fā)性總有機碳的含量進行分析。
2.如權(quán)利要求1所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述非揮發(fā)性總有機碳氣態(tài)氧化物為二氧化碳。
3.如權(quán)利要求1所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，還包括一二氧化碳吸附劑，所述二氧化碳吸附劑連通所述第一載氣提供模塊，吸附所述第一載氣中包含的二氧化碳。
4.如權(quán)利要求1所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述水樣分析儀為一非分布式紅外線分析儀。
5.如權(quán)利要求1所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述UV光的光波長介于200至280nm之間。
6.如權(quán)利要求1所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述容置空間具有一溢流水位與一定量水位，所述溢流水位高于所述定量水位，所述流體排放管路自所述容置空間的所述溢流水位延伸至所述設(shè)備本體外，所述水樣分析設(shè)備還包括：
一水樣導入管路，所述水樣導入管路連通所述容置空間的底部；以及
一定量排水管路，所述定量排水管路連通所述容置空間，自所述容置空間的所述定量水位延伸至所述設(shè)備本體外；其中，
所述執(zhí)行模塊還執(zhí)行一水樣導入作業(yè)，當所述執(zhí)行模塊執(zhí)行所述水樣導入作業(yè)時，開啟所述流體排放管路，令所述水樣導入管路啟動導入，將所述水樣自所述容置空間的底部導入所述容置空間中，并藉由所述流體排放管路排出所述容置空間內(nèi)超出所述溢流水位的所述水樣，以使所述水樣于所述容置空間內(nèi)的水位處于所述溢流水位，而后，關(guān)閉所述水樣導入管路，并開啟所述定量排水管路，藉由所述定量排水管路排出所述容置空間內(nèi)超出所述定量水位的所述水樣，以使所述水樣于所述容置空間內(nèi)的水位處于所述定量水位，以使所述容置空間容置有所述定量的所述水樣。
7.如權(quán)利要求6所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述容置空間具有一循環(huán)高水位與一循環(huán)低水位，所述水樣分析設(shè)備還包括：
一水樣循環(huán)管路，所述水樣循環(huán)管路連通所述容置空間，并自所述循環(huán)低水位經(jīng)由所述UV光提供模塊延伸至所述循環(huán)高水位；
當所述執(zhí)行模塊執(zhí)行所述非揮發(fā)性總有機碳分析作業(yè)時，令所述水樣循環(huán)管路驅(qū)使所述容置空間的所述水樣，由所述循環(huán)低水位經(jīng)由所述UV光提供模塊流向所述循環(huán)高水位而后再次進入所述容置空間，以實現(xiàn)所述水樣在所述容置空間與所述UV光提供模塊之間的循環(huán)流動。
8.如權(quán)利要求6所述的水樣分析設(shè)備，其特征在于，所述循環(huán)高水位高于所述定量水位，而所述循環(huán)低水位低于所述定量水位。
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