[發明專利]振動測定裝置以及方法、缺陷檢查裝置以及方法有效
| 申請號: | 201810270116.5 | 申請日: | 2018-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN108760878B | 公開(公告)日: | 2020-12-18 |
| 發明(設計)人: | 畠堀貴秀;長田侑也;田窪健二 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N29/04 | 分類號: | G01N29/04 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產權代理有限公司 31300 | 代理人: | 肖華 |
| 地址: | 日本國京都府京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 振動 測定 裝置 以及 方法 缺陷 檢查 | ||
1.一種振動測定裝置,其特征在于,具備:
a)激振部,其對對象物體激發振動;
b)激光源;
c)掃描部,其將來自所述激光源的光照射到所述對象物體的表面的測定區域的一部分區域,并使該照射區域在該測定區域內移動;
d)照射控制部,其通過控制所述激振部、所述激光源和所述掃描部,在與所述振動的相位同步的時刻,對所述測定區域的各點依次地照射將照明時間寬度設為了所述振動的周期的1/3以下的激光;
e)位移測定部,其對將從所述對象物體反射來的物體光分割成兩份而得到的兩個光束設置角度差而使該兩個光束發生干涉,針對所述測定區域的各點測定由此得到的干涉光,從而測定該照射區域內的接近的2點間的相對的面外方向的位移;以及
f)振動狀態決定部,其基于所述測定區域的各點的與所述相位同步的時刻的、所述振動的1個周期內的不同的3點以上的時刻的接近的2點間的面外方向的位移,決定所述測定區域整體的振動的狀態。
2.根據權利要求1所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述照射區域的面積處于所述測定區域的面積的五十分之一至八分之一的范圍內。
3.根據權利要求1所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述掃描部對所述照射區域的掃描頻率是所述振動的振動頻率的1/m,其中m是1以上的自然數。
4.根據權利要求1所述的振動測定裝置,其特征在于,
與所述相位同步的時刻的數量是[2n+1]以上,根據所述測定區域的各點的面外方向的位移,檢測所述振動的n次的高次諧波分量,其中n是2以上的自然數。
5.根據權利要求1所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述激光源的點亮時間寬度是所述振動的周期的1/3以上。
6.根據權利要求1所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述激光源有多個,從各個激光源向所述對象物體的表面的測定區域的相互不同的一部分區域照射,并使該照射區域在該測定區域內移動。
7.一種振動測定裝置,其特征在于,具備:
a)激振部,其對對象物體激發振動;
b)激光源;
c)掃描部,其將來自所述激光源的光照射到所述對象物體的表面的測定區域的一部分區域,并使該照射區域在該測定區域內移動;
d)照射控制部,其通過控制所述激振部、所述激光源和所述掃描部,在與所述振動的相位同步的時刻,對所述測定區域的各點依次地照射將照明時間寬度設為了所述振動的周期的1/3以下的激光;
e)干涉光測定部,其針對所述測定區域的各點,測定在將所述激光照射到所述照射區域之前分割出來的參照光與由于所述照射而從該點反射來的物體光的干涉光;
f)位移測定部,其針對所述測定區域的各點,使所述參照光與所述物體光的光程差以與所述激光的波長相應的距離發生變化,從而測定該點的面外方向的位移;以及
g)振動狀態決定部,其基于所述測定區域的各點的與所述相位同步的時刻的、所述振動的1個周期內的不同的3點以上的時刻的面外方向的位移,決定所述測定區域整體的振動的狀態。
8.根據權利要求7所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述照射區域的面積處于所述測定區域的面積的五十分之一至八分之一的范圍內。
9.根據權利要求7所述的振動測定裝置,其特征在于,
所述掃描部對所述照射區域的掃描頻率是所述振動的振動頻率的1/m,其中m是1以上的自然數。
10.根據權利要求7所述的振動測定裝置,其特征在于,
與所述相位同步的時刻的數量是[2n+1]以上,根據所述測定區域的各點的面外方向的位移,檢測所述振動的n次的高次諧波分量,其中n是2以上的自然數。
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