[發(fā)明專利]一種電致發(fā)光顯示面板、其制作方法及顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201810267233.6 | 申請日: | 2018-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN108470753B | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 承天一;高永益;黃煒赟;龍躍;童振霄;方京哲;樸榆景;千順女 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/32 | 分類號: | H01L27/32;H01L51/56 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 郭潤湘 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電致發(fā)光 顯示 面板 制作方法 顯示裝置 | ||
1.一種電致發(fā)光顯示面板,其特征在于,包括:襯底基板,位于所述襯底基板上且具有用于限定子像素發(fā)光區(qū)的多個開口區(qū)域的像素限定層,以及覆蓋一一對應(yīng)的所述開口區(qū)域的子像素的發(fā)光功能層;其中,
所述開口區(qū)域分為標(biāo)準(zhǔn)形狀開口區(qū)域和邊緣異形開口區(qū)域;
所述邊緣異形開口區(qū)域的面積小于用于限定相同發(fā)光顏色子像素的標(biāo)準(zhǔn)形狀開口區(qū)域的面積;
相同發(fā)光顏色子像素中,對應(yīng)于所述標(biāo)準(zhǔn)形狀開口區(qū)域和所述邊緣異形開口區(qū)域的發(fā)光功能層的面積相等且形狀相同。
2.如權(quán)利要求1所述的電致發(fā)光顯示面板,其特征在于,所述邊緣異形開口區(qū)域靠近非顯示區(qū)的邊緣連線構(gòu)成異形顯示區(qū)的邊界線。
3.如權(quán)利要求1或2所述的電致發(fā)光顯示面板,其特征在于,還包括:位于所述發(fā)光功能層與所述襯底基板之間的陽極;
同一所述子像素內(nèi),陽極與發(fā)光功能層在所述襯底基板上的正投影相互重合。
4.如權(quán)利要求1所述的電致發(fā)光顯示面板,其特征在于,還包括:位于所述發(fā)光功能層的出光側(cè)的色阻層;所述發(fā)光功能層包括白光發(fā)光層;
或,所述發(fā)光功能層包括單色發(fā)光層。
5.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-4任一項所述的電致發(fā)光顯示面板。
6.一種電致發(fā)光顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在襯底基板上形成具有用于限定子像素發(fā)光區(qū)的多個開口區(qū)域的像素限定層;所述開口區(qū)域分為標(biāo)準(zhǔn)形狀開口區(qū)域和邊緣異形開口區(qū)域;所述邊緣異形開口區(qū)域的面積小于用于限定相同顏色子像素的標(biāo)準(zhǔn)形狀開口區(qū)域的面積;
利用高精細(xì)掩模板,在所述像素限定層上形成完全覆蓋一一對應(yīng)的所述開口區(qū)域的子像素的發(fā)光功能層;
所述利用高精細(xì)掩模板,在所述像素限定層上形成完全覆蓋一一對應(yīng)的所述開口區(qū)域的子像素的發(fā)光功能層,具體包括:
利用高精細(xì)掩模板,形成面積相等且形狀相同的相同發(fā)光顏色子像素的發(fā)光功能層。
7.如權(quán)利要求6所述的制作方法,其特征在于,所述發(fā)光功能層包括白光發(fā)光層;
所述利用高精細(xì)掩模板,形成面積相等且形狀相同的相同發(fā)光顏色子像素的發(fā)光功能層,具體包括:利用一高精細(xì)掩模板,同時形成全部發(fā)光顏色子像素的發(fā)光功能層;
還包括:分別形成各所述子像素的色阻層。
8.如權(quán)利要求7所述的制作方法,其特征在于,所述發(fā)光功能層包括單色發(fā)光層;
所述利用高精細(xì)掩模板,形成面積相等且形狀相同的相同發(fā)光顏色子像素的發(fā)光功能層,具體包括:利用多個高精細(xì)掩模板,分別形成各發(fā)光顏色子像素的發(fā)光功能層。
9.如權(quán)利要求6所述的制作方法,其特征在于,在形成所述像素限定層之前,還包括:
在所述襯底基板上形成各子像素的陽極;
同一所述子像素內(nèi),陽極與發(fā)光功能層在所述襯底基板上的正投影均相互重合。
10.如權(quán)利要求6所述的制作方法,其特征在于,還包括:
采用大于各子像素的正常顯示電流設(shè)定倍數(shù)的補(bǔ)償電流,對形成的電致發(fā)光顯示面板中的各子像素進(jìn)行設(shè)定時長的發(fā)光老化處理。
11.如權(quán)利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述補(bǔ)償電流為正常顯示電流的3倍至5倍;所述設(shè)定時長為20分鐘至30分鐘。
12.如權(quán)利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述發(fā)光功能層包括單色發(fā)光層;
對紅色子像素進(jìn)行發(fā)光老化處理的時長大于對綠色子像素進(jìn)行發(fā)光老化處理的時長;且對紅色子像素進(jìn)行發(fā)光老化處理的時長小于對藍(lán)色子像素進(jìn)行發(fā)光老化處理的時長。
13.如權(quán)利要求12所述的制作方法,其特征在于,對紅色子像素、藍(lán)色子像素和綠色子像素同時進(jìn)行不同時長的發(fā)光老化處理。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





