[發(fā)明專利]一種柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿闹苽浞椒?/span>有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810267139.0 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN108531867B | 公開(公告)日: | 2020-03-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 于仕輝;劉榮闖;趙樂;李玲霞;孫永濤 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C23C14/28 | 分類號(hào): | C23C14/28;C23C14/04;C23C14/08 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責(zé)任專利代理事務(wù)所 12201 | 代理人: | 張宏祥 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 柔性 bts bzt 多層 薄膜 變?nèi)莨?/a> 制備 方法 | ||
一種柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿闹苽浞椒ǎ葘~箔柔性襯底和Sb摻雜的SnO2即ATO靶材裝入脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶頭上;再將脈沖激光沉積系統(tǒng)的本底真空度抽至3.0×10?3Pa以下,沉積得到50~1000nm厚的ATO薄膜層;再將BTS和BZT靶材分別裝入脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶頭上,沉積得到100~500nm的BTS、BZT和BTS薄膜層,然后取出制品,在BTS薄膜和底電極ATO層表面上制備金屬電極,實(shí)現(xiàn)柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿恼w制備。本發(fā)明介電調(diào)諧率≥50%@100kHz,介電損耗≤0.01,在柔性曲率半徑為5.0mm時(shí),性能變化率≤10%,器件性能優(yōu)良,適合在柔性電子技術(shù)中應(yīng)用。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于一種以成分為特征的陶瓷組合物,尤其涉及一種柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿闹苽浞椒ā?/p>
背景技術(shù)
柔性電子技術(shù)作為一場全新的電子技術(shù)革命,是當(dāng)今最令人激動(dòng)和最有前景的電子技術(shù)之一,受到學(xué)術(shù)界和工業(yè)界的廣泛關(guān)注。近年來,發(fā)達(dá)國家紛紛制定了針對(duì)柔性電子的重大研究計(jì)劃,如美國FDCASU計(jì)劃、歐盟第七框架計(jì)劃、日本TRADIM計(jì)劃等。我國科技部也將柔性電子列為重要的科技發(fā)展領(lǐng)域。柔性電子以其獨(dú)特的柔性/延展性、輕便型以及高效的制造工藝,具有廣泛的應(yīng)用前景。具體可應(yīng)用于信息領(lǐng)域如柔性電子顯示器、可彎曲折疊手機(jī)、柔性射頻/微波電路等;能源領(lǐng)域如柔性太陽能電池、鋰離子電池等;健康醫(yī)療如人造器官、“人聯(lián)網(wǎng)”工程;穿戴式智能設(shè)備用于航空宇航、深海探測等;軍事國防上柔性電子技術(shù)可實(shí)現(xiàn)智能皮膚、單兵通信、隱身的功能,提高戰(zhàn)場作戰(zhàn)的機(jī)動(dòng)性和隱蔽性。
變?nèi)莨茏鳛槿嵝噪娮蛹夹g(shù)的一種重要組成器件,其柔性化也愈來越收到關(guān)注,并且實(shí)現(xiàn)其柔性化也愈來越迫切。BaZr0.2Ti0.8O3(BZT)薄膜是當(dāng)前最受關(guān)注的介電可調(diào)氧化物薄膜材料,但BZT薄膜的介電損耗較高(≥0.01),限制了其實(shí)際應(yīng)用。BaSn0.15Ti0.85O3(BTS)薄膜具有高的介電調(diào)諧率和更低的介電損耗。因此,本發(fā)明將BTS與BZT薄膜復(fù)合制備性能優(yōu)良的柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨埽詽M足柔性電子技術(shù)的應(yīng)用需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的,在于克服現(xiàn)有技術(shù)中介電調(diào)諧性能的不足,利用脈沖激光沉積技術(shù),提供一種性能優(yōu)良的柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿闹苽浞椒ā?/p>
本發(fā)明通過如下技術(shù)方案予以實(shí)現(xiàn)。
一種柔性BTS/BZT/BTS多層薄膜變?nèi)莨艿闹苽浞椒ǎ浒ㄈ缦拢?/p>
(1)將銅箔表面清洗干凈放入脈沖激光沉積系統(tǒng)腔體內(nèi)的樣品臺(tái)上,作為柔性襯底;
(2)將Sb摻雜的SnO2即ATO靶材裝入脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶頭上;靶材與襯底的距離為40~90mm;
Sb的摻雜的質(zhì)量百分比含量為0<Sb≤30%;
(3)將脈沖激光沉積系統(tǒng)的本底真空度抽至3.0×10-3Pa以下,通入大于0且小于、等于50Pa的氧氣作為生長氣體,襯底溫度為200℃到700℃,進(jìn)行沉積得到50~1000nm厚的ATO薄膜層;
(4)取出襯底,在ATO層表面用掩模版遮蓋,留出底電極位置后,再將其放入脈沖激光沉積系統(tǒng)的樣品臺(tái)上;
(5)將BTS和BZT靶材分別裝入脈沖激光沉積系統(tǒng)的靶頭上。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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