[發明專利]一種閃光燈退火爐在審
| 申請號: | 201810264998.4 | 申請日: | 2018-03-28 |
| 公開(公告)號: | CN108447804A | 公開(公告)日: | 2018-08-24 |
| 發明(設計)人: | 于仕輝;趙樂;劉榮闖;李玲霞;孫永濤 | 申請(專利權)人: | 天津大學 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/324 |
| 代理公司: | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人: | 張宏祥 |
| 地址: | 300072*** | 國省代碼: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空腔 樣品臺 樣品擋板 高能閃光燈 脈沖發生器 擋板支架 閃光燈 退火爐 轉軸 凸透鏡 電線連接電源 外部水冷裝置 有機柔性襯底 無機非金屬 錐形反光鏡 保護制品 側面設置 電子技術 技術難題 殼體內部 勻速轉動 抽氣閥 高能光 功率源 觀察窗 進氣閥 濾光片 真空計 晶化 殼體 薄膜 遮擋 轉動 外部 | ||
1.一種閃光燈退火爐,包括殼體、真空腔和閃光燈,其特征在于,所述殼體(20)的內部為真空腔(1),真空腔(1)的側面設置有真空計(6)和進氣閥(7),真空腔(1)的底部設置有抽氣閥(17),真空腔(1)的另一側面設置有真空腔門(18),真空腔門(18)上設置有觀察窗(19);真空腔(1)的頂部兩端分別設置有高能閃光燈(8),每個高能閃光燈(8)還分別設置有錐形反光鏡(9)和凸透鏡(10)以實現高能光的聚集;真空腔(1)的中間部位設置有濾光片(11),濾光片(11)通過濾光片支撐桿(12)與殼體相連接;濾光片(11)的下面設置有樣品擋板(13),樣品擋板(13)通過擋板支架(14)支撐于真空腔內,并通過擋板支架(14)進行轉動以遮擋和保護制品;樣品擋板(13)的下面設置有樣品臺(15),樣品臺(15)下面的中央位置設置有樣品臺轉軸(16),樣品臺(15)內設置水有水冷循環裝置,樣品臺轉軸(16)為中空可旋轉結構,樣品臺(15)通過樣品臺轉軸(16)勻速轉動并與外部水冷裝置相連接;
殼體(20)的外部還設置有脈沖發生器(3)和功率源(5),兩者通過電纜(4)相連接;脈沖發生器(3)與兩高能閃光燈(8)通過電線(2)連接電源。
2.根據權利要求1所述的一種閃光燈退火爐,其特征在于,所述殼體(20)采用金屬材料,為矩形、圓形或者其它幾何形狀,其容積為10L~500L。
3.根據權利要求1所述的一種閃光燈退火爐,其特征在于,該退火爐抽氣閥(17)外接抽氣設備為機械泵、分子泵或者離子泵,實現真空腔(1)內的真空,并通過真空計(6)控制腔內壓強。
4.根據權利要求1所述的一種閃光燈退火爐,其特征在于,該退火爐內的高能閃光燈(8)、錐形反光鏡(9)和凸透鏡(10)為1組,實現高能光的聚集,組數為1組以上。
5.根據權利要求1所述的一種閃光燈退火爐,其特征在于,樣品臺轉軸(16)的轉速≥1圈/分鐘。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





