[發(fā)明專利]瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng)及方法、測(cè)試主機(jī)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810262563.6 | 申請(qǐng)日: | 2018-03-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN108519215B | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周凌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 華勤技術(shù)有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01M11/00 | 分類號(hào): | G01M11/00 |
| 代理公司: | 上海晨皓知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31260 | 代理人: | 戴瑩瑛 |
| 地址: | 201203 上*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 適應(yīng)性 測(cè)試 系統(tǒng) 方法 主機(jī) | ||
1.一種瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,包括:第一攝像頭、第二攝像頭以及測(cè)試主機(jī);
所述測(cè)試主機(jī)分別與第一攝像頭與第二攝像頭通信連接,所述測(cè)試主機(jī)與待測(cè)設(shè)備通信連接;
所述測(cè)試主機(jī)用于控制待測(cè)設(shè)備顯示預(yù)設(shè)的測(cè)試圖案;所述待測(cè)設(shè)備為虛擬現(xiàn)實(shí)設(shè)備或增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備;
所述測(cè)試主機(jī)還用于分別通過(guò)位于所述待測(cè)設(shè)備的觀測(cè)位置的所述第一攝像頭與所述第二攝像頭,捕捉所述測(cè)試圖案;
所述測(cè)試主機(jī)還用于獲取所述第一攝像頭與所述第二攝像頭之間的平移向量與旋轉(zhuǎn)矩陣;所述平移向量的模為當(dāng)前測(cè)試瞳距;
所述測(cè)試主機(jī)還用于在所述測(cè)試圖案上選定至少四個(gè)測(cè)試點(diǎn),從所述第一攝像頭和所述第二攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上分別獲取各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo);
所述測(cè)試主機(jī)還用于根據(jù)各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo)、所述平移向量以及所述旋轉(zhuǎn)矩陣,計(jì)算出各所述測(cè)試點(diǎn)的三維坐標(biāo);
所述測(cè)試主機(jī)還用于根據(jù)各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo)以及三維坐標(biāo),判斷各所述測(cè)試點(diǎn)的位置關(guān)系是否滿足預(yù)設(shè)條件,并在滿足預(yù)設(shè)條件時(shí),判定所述待測(cè)設(shè)備適用于所述當(dāng)前測(cè)試瞳距。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,所述預(yù)設(shè)條件包括:所述第一攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上的各所述測(cè)試點(diǎn)位于同一平面,且相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的當(dāng)前距離相對(duì)于相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的先前距離等比增大或縮小;或者,所述第二攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上的各所述測(cè)試點(diǎn)位于同一平面,且相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的當(dāng)前距離相對(duì)于相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的先前距離等比增大或縮小;其中,所述當(dāng)前距離為根據(jù)所述三維坐標(biāo)計(jì)算出來(lái)的距離,所述先前距離為根據(jù)所述二維坐標(biāo)計(jì)算出來(lái)的距離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,所述測(cè)試圖案為黑白棋盤格。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng),其特征在于,各所述測(cè)試點(diǎn)均為所述黑白棋盤格上黑格與白格的交點(diǎn)。
5.一種瞳距適應(yīng)性測(cè)試方法,其特征在于,應(yīng)用于包括第一攝像頭、第二攝像頭的瞳距適應(yīng)性測(cè)試系統(tǒng);所述方法包括:
控制待測(cè)設(shè)備顯示預(yù)設(shè)的測(cè)試圖案;所述待測(cè)設(shè)備為虛擬現(xiàn)實(shí)設(shè)備或增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)設(shè)備;
分別通過(guò)位于所述待測(cè)設(shè)備的觀測(cè)位置的所述第一攝像頭與所述第二攝像頭,捕捉所述測(cè)試圖案;
獲取所述第一攝像頭與所述第二攝像頭之間的平移向量與旋轉(zhuǎn)矩陣;所述平移向量的模為當(dāng)前測(cè)試瞳距;
在所述測(cè)試圖案上選定至少四個(gè)測(cè)試點(diǎn),從所述第一攝像頭和所述第二攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上分別獲取各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo);
根據(jù)各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo)、所述平移向量以及所述旋轉(zhuǎn)矩陣,計(jì)算出各所述測(cè)試點(diǎn)的三維坐標(biāo);
根據(jù)各所述測(cè)試點(diǎn)的二維坐標(biāo)以及三維坐標(biāo),判斷各所述測(cè)試點(diǎn)的位置關(guān)系是否滿足預(yù)設(shè)條件;當(dāng)滿足預(yù)設(shè)條件時(shí),判定所述待測(cè)設(shè)備適用于所述當(dāng)前測(cè)試瞳距。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的瞳距適應(yīng)性測(cè)試方法,其特征在于,所述預(yù)設(shè)條件包括:所述第一攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上的各所述測(cè)試點(diǎn)位于同一平面,且相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的當(dāng)前距離相對(duì)于相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的先前距離等比增大或縮小;或者,所述第二攝像頭捕捉的所述測(cè)試圖案上的各所述測(cè)試點(diǎn)位于同一平面,且相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的當(dāng)前距離相對(duì)于相鄰所述測(cè)試點(diǎn)之間的先前距離等比增大或縮小;其中,所述當(dāng)前距離為根據(jù)所述三維坐標(biāo)計(jì)算出來(lái)的距離,所述先前距離為根據(jù)所述二維坐標(biāo)計(jì)算出來(lái)的距離。
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