[發明專利]摩爾紋模擬方法及裝置、存儲介質、電子設備

有效

• 申請號: 201810253656.2
• 申請日: 2018-03-26
• 公開（公告）號: CN108509706B
• 公開（公告）日: 2022-04-29
• 發明（設計）人: 毛大龍;高坤坤;付劍波;黃中浩;吳海龍;趙永亮;冉敏;梁鵬;王瑞
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司
• 主分類號: G06F30/20
• 分類號: G06F30/20
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王衛忠;袁禮君

1.一種摩爾紋模擬方法，其特征在于，包括：

提供一傳感器層圖案和一色阻圖案；

根據所述傳感器層圖案距所述色阻圖案的距離、觀測點相對所述傳感器層圖案的位置，對所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點進行校正；

根據校正后的所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點的坐標將所述傳感器層圖案和所述色阻圖案進行疊加，以獲取目標圖案；

對所述目標圖案進行處理以得到模擬結果；

其中，所述觀測點相對所述傳感器層圖案的位置包括：所述觀測點距所述傳感器層圖案的距離和所述觀測點與所述傳感器層圖案的幾何中心的夾角；

所述根據所述傳感器層圖案距所述色阻圖案的距離、觀測點相對所述傳感器層圖案的位置，對所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點進行校正包括：

根據所述傳感器層圖案距所述色阻圖案的距離、所述觀測點距所述傳感器層圖案的距離和所述觀測點與所述傳感器層圖案的幾何中心的夾角并結合下述公式對所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點進行校正：

x’＝(1+d/h)*x-d*cot(θ)

y’＝(1+d/h)*y

其中，x、y為所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點在XY平面中的原始坐標，x’、y’為所述色阻圖案中與所述傳感器層圖案中的點對應的點在XY平面中校正后的坐標，d為所述傳感器層圖案距所述色阻圖案的距離，h為所述觀測點距所述傳感器層圖案的距離，θ為所述觀測點與所述傳感器層圖案的幾何中心的夾角。

2.根據權利要求1所述的摩爾紋模擬方法，其特征在于，所述提供一傳感器層圖案包括：

根據觸控產品的類型確定所述觸控產品的分辨率，根據所述觸控產品的分辨率提供所述傳感器層圖案。

3.根據權利要求2所述的摩爾紋模擬方法，其特征在于，所述根據所述觸控產品的分辨率提供所述傳感器層圖案包括：

根據所述觸控產品的分辨率確定傳感器的長度、寬度、角度以及所述傳感器之間的間距；

根據所述傳感器的長度、寬度、角度以及所述傳感器之間的間距提供所述傳感器層圖案。

4.根據權利要求2所述的摩爾紋模擬方法，其特征在于，所述觸控產品的類型包括：單層內嵌型、多層內嵌型、金屬網絡型。

5.根據權利要求1所述的摩爾紋模擬方法，其特征在于，所述對所述目標圖案進行處理以得到模擬結果包括：

對所述目標圖案中與所述色阻圖案中的黑色矩陣重疊的區域進行黑化，以獲取黑化后的所述目標圖案；

對黑化后的所述目標圖案進行處理以得到模擬結果。